原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究

原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究

《原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究》是依託浙江大學,由章岳光擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究
  • 依託單位:浙江大學
  • 項目負責人:章岳光
  • 項目類別:面上項目
  • 批准號:60778025
  • 申請代碼:F0508
  • 負責人職稱:副教授
  • 研究期限:2008-01-01 至 2010-12-31
  • 支持經費:33(萬元)
項目摘要
本項目提出了用原子層沉積技術製備光學薄膜的方法。利用原子層沉積技術設計並製備出可作為光學薄膜的HfO2,SiO2,ZrO2等膜層。研究這些光學薄膜的微結構,光學特性,機械特性與製備工藝的關係。利用原子層沉積技術具有厚度控制精確,可沉積面積大,厚度均勻性好等優點,研究上述光學薄膜構成的多層光學薄膜製備的途徑。利用該方法台階復型好的優點,製備光子晶體二維波狀結構薄膜。研究用原子層沉積技術製備的光學薄膜的抗雷射損傷能力,探索用該方法製備抗強雷射薄膜的可能性。項目的研究工作將拓寬光學薄膜的製備技術,在大面積,複雜形貌元件如光學微機電系統等方面有重要的套用前景。所以,該研究既具有強的前瞻性、創新性,又具有重要的科學意義和套用前景。

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