《原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究》是依託浙江大學,由章岳光擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名:原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究
- 依託單位:浙江大學
- 項目負責人:章岳光
- 項目類別:面上項目
- 批准號:60778025
- 申請代碼:F0508
- 負責人職稱:副教授
- 研究期限:2008-01-01 至 2010-12-31
- 支持經費:33(萬元)
《原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究》是依託浙江大學,由章岳光擔任項目負責人的面上項目。
《原子層沉積光學薄膜的生長與性能研究》是依託浙江大學,由章岳光擔任項目負責人的面上項目。項目摘要本項目提出了用原子層沉積技術製備光學薄膜的方法。利用原子層沉積技術設計並製備出可作為光學薄膜的HfO2,SiO2,ZrO2等...
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陳蓉圍繞著原子層沉積、納米顆粒製備、薄膜工藝與設備開發,承擔了多項新能源與微電子相關項目的研究。承擔項目 截至2022年5月,陳蓉先後主持包括國家自然科學基金重點項目、國家重大科學研究計畫(973)青年科學家項目、湖北省創新群體等多個...
在《光學薄膜分類及套用》一篇中,理論聯繫實際,力求反映國內外光學薄膜的最新成果,並以光學薄膜產品作為實例。在《薄膜技術基礎》一篇中,比較完整地介紹各種薄膜沉積方法和各種光學薄膜檢測方法。
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第7章薄膜技術187 7.1薄膜沉積方法188 7.1.1薄膜生長的基本原理188 7.1.2影響薄膜生長的主要因素193 7.1.3薄膜的表征方法195 7.1.4物理氣相沉積方法196 7.1.5化學氣相沉積方法206 7.1.6原子層沉積方法208 7.1.7電化學...
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