分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。
基本介紹
- 中文名:分析掃描電子顯微鏡
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年9月17日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。
掃描電子顯微鏡 (scanning electron microscope, SEM) 是一種用於高解析度微區形貌分析的大型精密儀器 [3] 。具有景深大、解析度高, 成像直觀、立體感強、放大倍數範圍寬以及待測樣品可在三維空間內進行旋轉和傾斜等特點。另外具有可測...
第一台掃描電子顯微鏡是1938年由德國人M.von阿爾登研製成功的。通常掃描電子顯微鏡附有X射線能譜和波譜分析裝置,可在觀察形貌的同時,快速得出該區域的化學成分。另外,在掃描電子顯微鏡上還可進行電子通道花樣分析,從而可研究試樣微區的...
掃描式電子顯微鏡是一種用於材料科學、紡織科學技術領域的分析儀器,於2016年10月28日啟用。技術指標 放大倍數:5-300000倍;解析度:高真空:3nm(30KV)/8nm(3KV)/15nm(1KV) 低真空:4.0nm(30KV) ;電子槍:全自動,亦可手動調整...
分析掃描電子顯微鏡 分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。技術指標 加速電壓:5~30KV;樣品大小:80mm;解析度:5nm。主要功能 用於觀察樣品表層結構。
分析電子顯微鏡是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。analytical electron microscope;AEM 是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有:可獲得透射電子圖像、掃描...
掃瞄電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2006年12月18日啟用。技術指標 解析度:二次電子像3nm,背反射電子像4nm; 放大倍數:05-30KV(10V步進不變)。主要功能 對各種材料(金屬、非金屬、礦物、各種合金化合物等) 試樣...
檢查過程一般是採集取樣,然後標本的製作,醫生在一定的時間內用掃描電子顯微鏡進行觀察細胞,然後得出圖像進行分析。相關疾病 水痘肺炎,手足癬,全身脂肪代謝障礙,腺病毒性腸炎,外陰神經鞘瘤,尿道肉阜,線粒體腦肌病,口腔念珠菌病,...
掃描電子顯微鏡系統是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年10月26日啟用。技術指標 解析度:3.0nm@30KV(SE and W),4.0nm@30KV(VP with BSD)。主要功能 觀察掃描各種金屬材料及產品的顯微形貌,可進行失效分析,能譜...
掃描電子顯微鏡能譜分析儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2014年6月16日啟用。技術指標 最高解析度:≤3nm。 3X~1000,000X或者更寬,連續可調,從小到大任一倍數圖像不變形。主要功能 樣品全自動控制分析,實時計算機控制等功能。
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用於物質成分分析;發射式電子顯微鏡用於自發射電子表面的研究。...
掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
日本JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於安全科學技術領域的分析儀器,於2007年11月13日啟用。技術指標 放大倍數5-10萬倍;三級物鏡光欄;高低真空切換;加速電壓0.5→30KV。主要功能 金屬材料,納米材料,微觀形貌分析及微區成份分析。
高真空分析型掃描電子顯微鏡 高真空分析型掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2012年10月31日啟用。技術指標 電鏡解析度3.5nm;能譜解析度139ev。主要功能 二次電子像,背散射像,成分分析。
JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於生物學、物理學、化學、基礎醫學領域的分析儀器,於2019年7月6日啟用。技術指標 電子光學系統 二次電子解析度 3.0nm@30kV;8.0nm@3kV;15nm@1kV(鎢燈絲) 2.0nm@30kV;6.0nm@3kV;9nm@1kV(六硼化...
掃描電子顯微鏡EVO LS 10 掃描電子顯微鏡EVO LS 10是一種用於生物學學科領域的顯微鏡及圖象分析儀器,於2016年10月19日啟用。分析項目 樣品表面形貌掃描。分析標準 遺傳-雷射掃描共聚焦顯微鏡樣品的標準。
掃描電子顯微鏡分析方法通則 《掃描電子顯微鏡分析方法通則》是2020年12月1日實施的一項行業標準。備案信息 備案號:78236-2020 備案月報: 2020年第11號(總第247號)
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空):...
鎢燈掃描電子顯微鏡是一種用於基礎醫學、臨床醫學、預防醫學與公共衛生學領域的分析儀器,於2010年11月01日啟用。技術指標 1、 台式設計,節約能源:使用時只需連線上電源插頭,不需要冷卻循環水,只需放在桌面操作。 2、 像使用數位相機...
JEOL掃描式電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2018年7月13日啟用。技術指標 高真空解析度 3.0nm in SEI (二次電子圖像)|JSM-IT300 解析度高真空模式 3.0 nm (30 kV) 8.0nm(3.0 kV) 15.0 nm(1.0 kV) ...
電子掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2003年12月1日啟用。技術指標 x,y方向解析度高於0.01nm, 縱向解析度高於0.05nm. 可以做原子分辨的成像。主要功能 測試納米材料樣品形貌、粒度及表面粗糙度等。
多功能掃描式電子顯微鏡 多功能掃描式電子顯微鏡是一種用於農學、林學、材料科學領域的分析儀器,於2012年12月07日啟用。技術指標 1.加速電壓:200V~30kV;2.放大倍數:6~100萬倍,誤差 主要功能 放大倍數;解析度。
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子...
微納操縱及原位光電分析掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學、機械工程領域的分析儀器,於2015年11月25日啟用。技術指標 高真空模式:30kV時優於1.0nm(SE),1kV時優於3.0nm(SE),30kV時優於2.5nm(BSE);;低真空模式:...
電子顯微鏡SEM是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年6月15日啟用。技術指標 1 解析度 :高真空:二次電子 3.0nm(30kV),8.0nm(3kV) 背散射電子 3.5nm(30kV) 低真空:背散射電子 3.5nm(30kV)2放大倍數: 6x~1,000,...
日立高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年3月18日啟用。技術指標 加速電壓0.5-30KV;高加速電壓15KV,二次電子圖像解析度1nm;低加速電壓,二次電子圖像解析度2nm;低倍模式放大倍數30X-2000X;高倍模式放大...
全自動台式掃描電子顯微鏡是一種用於環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2015年12月10日啟用。技術指標 放大倍數20×-100000× 解析度優於18nm。主要功能 功能更全的光學顯微鏡,提高后的光學顯微鏡有聚焦功能,放大倍數在20-120...
高解析度掃描電子顯微鏡是一種用於化學、地球科學、生物學、材料科學領域的分析儀器,於2013年1月8日啟用。技術指標 ① 加速電壓:0.1~30 kV ② 觀測倍率:20~1,200,000 ③ 二次電子解析度:1.0nm(加速電壓15kV),1.3nm(...