電子顯微鏡SEM是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2010年6月15日啟用。
電子顯微鏡SEM是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2010年6月15日啟用。技術指標 1 解析度 ：高真空：二次電子 3.0nm(30kV)，8.0nm(3kV) 背散射電子 3.5nm(30kV) 低真空：背散射電子 3.5nm(30kV)2放大倍數: 6x～1,000,...
掃描電子顯微鏡[學]掃描電子顯微鏡[學]（scanning electron microscopy，sem，scanning electron microscopy，sem）是1993年公布的電子學名詞。公布時間 1993年，經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《電子學名詞》
飛納台式掃描電子顯微鏡被用於廣泛的市場和套用領域，如材料科學、電子、納米顆粒、生物醫學、紡織纖維和地質科學等 用於樣品的形貌表征、顆粒分析、紋理觀察等。Phenom XL G2 台式掃描電鏡（SEM）可自動進行質量控制，並提供準確、可重複的...
SUPRA 40是一款高解析度場發射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強性能加上多種納米工具的使用，不用花費大量時間，使高解析度成像和非導體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場發射電鏡適用於...
電子顯微鏡，簡稱電鏡，英文名Electron Microscope（簡稱EM），經過五十多年的發展已成為現代科學技術中不可缺少的重要工具。電子顯微鏡由鏡筒、真空裝置和電源櫃三部分組成。電子顯微鏡技術的套用是建立在光學顯微鏡的基礎之上的，光學顯微鏡的...
台式掃描電子顯微鏡（Desktop Scanning Electron Microscope）是一種體積小巧，可安放在實驗檯面上操作的電子顯微鏡。其原理和傳統（落地式）掃描電子顯微鏡相同。部件包括：電子發射、電磁透鏡、信號探測、真空系統、計算機控制系統。台式掃描電子...
場發射掃描電子顯微鏡（FESEM）是電子顯微鏡的一種。該儀器具有超高解析度，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理，在鍍膜或不鍍膜的基礎上，低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品...
CD-SEM（特徵尺寸測量用掃描電子顯微鏡）是一種根據圖像的灰度(grey-scale)來確定圖形的邊界，進而計算出線寬的掃描電子顯微鏡。測量圖形的尺寸，一般是依靠高解析度的電子顯微鏡(scanning electron microscope， CD-SEM)來測量光刻膠圖形的...
場發射掃描電子顯微鏡SEM5000，是一款高分辨的多功能掃描電鏡，解析度優於1nm，放大倍數超過100萬倍。 SEM5000的新型鏡筒，最佳化了電子光路設計，採用高壓隧道技術，在高電壓和低電壓下均能實現高質量成像；系統配置了無漏磁物鏡，實現了無...
掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡（英語：Scanning Electron Microscope，縮寫為SEM），簡稱掃描電鏡，是一種電子顯微鏡，其通過用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。電子與樣品中的原子相互作用，產生包含關於樣品的表面測繪學形貌和...
高壓電子顯微術是指用加速電壓超過500kV的電子顯微鏡對試樣進行顯微分析的技術。簡介 晶體學取向成像掃描電子顯微術SEM的另一個新發展方向是以背散射電子衍射圖樣(EBSP)為基礎的晶體學取向成像電子顯微術(OIM)。在SEM上增加一個可將試樣...
台式透射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2016年9月3日啟用。技術指標 透射電鏡(TEM)模式解析度不大於1.2 nm 掃描電鏡(SEM)模式解析度不大於3 nm 樣品腔真空度優於10-5 mbar。主要功能 台式透射掃描電鏡。
掃描電子顯微鏡 EVO 18是一種用於地球科學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的顯微鏡及圖象分析儀器，於2012年1月4日啟用。技術指標 解析度：3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD ) 加速電壓：0.2-...
2、Schottky場發射電子槍：高亮度、高對比度；3、多種成像模式：透射電鏡（TEM）、電子衍射（ED）、掃描電鏡（SEM）、掃描透射電鏡（STEM）；4、解析度：1.5nm（TEM）；10nm（SEM）5、觀察生物樣品無需染色 LVEM25（電子加速電壓：...
場發射掃描電子顯微鏡（FESEM）是電子顯微鏡的一種。該儀器具有超高解析度，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理，在鍍膜或不鍍膜的基礎上，低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品...
低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、航空航天領域領域的科學儀器，於1999年6月1日啟用。技術指標 1.SEM解析度：3.5nm； 2.EDS解析度：131.7ev。主要功能 對各種固體材料的表面進行表面形貌的觀察和元素組成分析。
Helios Nanolab G3 UC 是目前世界上非常先進的用於細胞、組織等生物樣品成像的掃描雙束電子顯微鏡：（1）具有Dual Beam—場發射掃描電子雙束（SEM）和聚焦離子束（Focused Ion Beam, FIB）：藉助Dual Beam，FEI AutoSlicerViewer軟體可...
材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2015年10月21日啟用。技術指標 放大倍數：二次電子60000倍，背散射30000倍，鎢燈絲，試樣尺寸：直徑70mm，高度50mm，加速電壓15KV，10KV，5KV，EDS。主要功能 進行SEM分析、能譜分析。
sem專員是專門負責進行電子掃描操作的人員。電子顯微鏡 專門負責進行電子掃描操作的人員。(SEM)掃描電子顯微鏡的設計思想和工作原理，早在1935年便已被提出來了。1942年，英國首先製成一台實驗室用的掃描電鏡，但由於成像的解析度很差，照相...
利用電子顯微鏡的高分辨能力、高放大倍率等特點來分析研究物體的組織形貌、結構特徵的一種近代材料物理試驗方法。電子顯微鏡主要有4種類型：①透射式電子顯微鏡；②掃描式電子顯微鏡；③反射式電子顯微鏡；④發射式電子顯微鏡。其中前兩種套用較...
三維電鏡（3D-EM, 3-dimensional electron microscopy）技術是將電子顯微鏡技術與計算機圖像處理技術結合，利用大量的二維結構照片進行自動化或半自動數據拼接擬合，最終獲得高分辨三維圖像的技術。技術介紹 連續超薄切片掃描電鏡成像（AutoCUTS-...
掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器，於2017年7月14日啟用。技術指標 第四代 Phenom Pro 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高解析度台式掃描電鏡。觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構，放大倍數要求可達130,000 倍。基於新一代...
掃描速度：標配提供17種非隔行電子束掃描速度，從25ns像素駐留時間到1.64ms像素駐留時間。樣品倉尺寸: 120mm Ø x 120mm high(4.75 x 4.75) 。樣品座：12 SEM ½ 樣品座，可調節高度最大高度60mm。主要功能 掃描電鏡利用...
雙束場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於生物學、材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2011年12月27日啟用。技術指標 1、場發射槍 2、FIB最大束流20nA，SEM解析度1.1nm@20kv，FIB解析度2.5nm@30kv 3、具有Pt氣體沉積系統。主要功能...
背向散射電子衍射技術 （Electron Back Scatter Diffraction, EBSD）是一種利用衍射電子束來鑑別樣品結晶學方位的技術。掛載在掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscopy, SEM）中，傾斜角度約70度，加速後的電子束射入樣品中，產生反彈...
超高解析度掃描電子顯微鏡是專門為現今技術研究和發展設計的超高解析度儀器。產品介紹 冷場發射掃描電子顯微鏡m213451是專門為現今技術研究和發展設計的超高解析度儀器。獨特之處在於使用複合檢測器允許同時顯示二次電子和背散射電子成像。可以以...
掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡（英語：Scanning Electron Microscope，縮寫為SEM），簡稱掃描電鏡，是一種電子顯微鏡，其通過用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。電子與樣品中的原子相互作用，產生包含關於樣品的表面測繪學形貌和...
① 電子顯微鏡。一種以高速運動的電子束作為“光源”或激發源，對物體的微觀結構進行放大分析觀測的電子光學儀器，可分為透射電鏡(TEM)、掃描電鏡(SEM)、掃描透射電鏡 （STEM）、反射電鏡（REM）、點投影電鏡(PPEM)及場發射電鏡(FEEM)...
