低真空掃描電子顯微鏡

低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、航空航天領域領域的科學儀器，於1999年6月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：低真空掃描電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、航空航天領域
• 啟用日期：1999年6月1日

技術指標

1.SEM解析度：3.5nm； 2.EDS解析度：131.7ev。

主要功能

對各種固體材料的表面進行表面形貌的觀察和元素組成分析。