掃描電子顯微鏡能譜分析儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2014年6月16日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電子顯微鏡能譜分析儀器
- 產地:捷克
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2014年6月16日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子能譜儀
掃描電子顯微鏡能譜分析儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2014年6月16日啟用。
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10....
掃描電子顯微鏡能譜分析儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2014年6月16日啟用。技術指標 最高解析度:≤3nm。 3X~1000,000X或者更寬,連續可調,從小到大任一倍數圖像不變形。主要功能 樣品全自動控制分析,實時計算機控制等功能。
能譜儀(EDS,Energy Dispersive Spectrometer)是用來對材料微區成分元素種類與含量分析,配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。原理 各種元素具有自己的X射線特徵波長,特徵波長的大小則取決於能級躍遷過程中釋放出的特徵能量△E,能譜儀...
掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)是一種用於高解析度微區形貌分析的大型精密儀器。具有景深大、解析度高,成像直觀、立體感強、放大倍數範圍寬以及待測樣品可在三維空間內進行旋轉和傾斜等特點。另外具有可測樣品種類豐富,...
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
還可分析生物樣品和非導電樣品(背散射和二次電子像)、分析液體樣品以及土20°C內的固液相變過程觀察。簡要介紹 ESEM是環境掃描電子顯微鏡(EnvironmentalScanningElectronMicroscope)的英文縮寫。由於在它物鏡的下極靴處裝有一壓差光闌(pressure...
數位化電子掃描顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2013年3月30日啟用。技術指標 解析度4.5nm(烏絲陰極),放大倍數15-250000倍,電子槍:發叉式烏絲陰極。主要功能 觀測固體試樣表面的微觀形貌;組合分析功能有:X射線...
攜帶型電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2019年7月16日啟用。技術指標 二次電子解析度:≤4.0nm@20kV,15nm@1kV;背散射電子解析度:≤5.0nm@20kV(低真空);放大倍數:6~300000倍;五軸馬達台;X射線能譜儀。
計算機控制掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、化學工程領域的分析儀器,於2014年10月31日啟用。技術指標 二次電子解析度不差於3.0nm @30kV、8.0nm @3kV和 15nm (1kV)背散射電子分0.3-30kV;放大倍數範圍:5X-300,000X。樣...
桌上型掃描電鏡及能譜分析系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年9月26日啟用。技術指標 ● 最高倍率達60,000X ● SE (二次電子) 和 BSE (背散射) - 多探測器 ● 加速電壓5kV~30kV範圍可調 ● 多種真空模式 - 標準...
掃描式電子顯微鏡/掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 XY方向解析度為0.2nm,Z方向為0.01nm,最大掃描範圍150*150um。主要功能 利用針尖與樣品表面原子間的微弱作用來作為反饋信號,維持針尖與...
是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有:可獲得透射電子圖像、掃描透射電子圖像、二次電子圖像、背散射電子圖像和X射線圖像,可用X射線能譜和電子能譜進行微-微區成分分析,用多種衍射技術...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術(第2版)》是2022年電子工業出版社出版的圖書,作者是工業和信息化部電子第五研究所 。內容簡介 本書從套用的角度出發,介紹了掃描電鏡和能譜儀的基本原理及其在實際工作中的一些典型套用。全書...
可變真空掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2011年4月20日啟用。技術指標 1、解析度:二次電子探測器3.0nm(30kV),15.0nm(1kV),背散射電子探測器4.0nm(30kV)2、放大倍數5~300000倍,自動修正放大;3...
具有高性能x射線能譜儀,能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學組分綜合分析能力。簡介 掃描電子顯微鏡因其解析度高、景深大、圖像更富立體感、放大倍數可調範圍寬等優點而被廣泛套用於半導體、無機...
體積小巧(相對於落地式掃描電子顯微鏡)操作簡便 價格便宜 套用範圍 台式掃描電鏡用於各種樣品微細結構和特徵的形貌觀察,適用於生物樣品、醫學樣品、環境樣品、金屬材料、合金材料、陶瓷材料、吸附劑等的形貌觀察和微區分析。樣品製備一般...
冷場場發射掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器,於2017年3月22日啟用。技術指標 解析度 1.0nm @ 15kV,能譜解析度133eV(Mn Ka),分析元素B(5)-- U(92)。主要功能 本儀器具有高的解析度,...
具有高性能x射線能譜儀,能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學組分綜合分析能力。掃描電子顯微鏡因其解析度高、景深大、圖像更富立體感、放大倍數可調範圍寬等優點而被廣泛套用於半導體、無機非金屬...
台式電子顯微鏡能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年6月28日啟用。技術指標 光學放大 20-100倍;電子放大120,000倍;解析度: 優於18 nm; 5kV-15kV連續可調。主要功能 用於對各種樣品進行高分辨形貌觀察及表面元素成分點...
分析掃描電子顯微鏡 分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。技術指標 加速電壓:5~30KV;樣品大小:80mm;解析度:5nm。主要功能 用於觀察樣品表層結構。
JEOL掃描式電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2018年7月13日啟用。技術指標 高真空解析度 3.0nm in SEI (二次電子圖像)|JSM-IT300 解析度高真空模式 3.0 nm (30 kV) 8.0nm(3.0 kV) 15.0 nm(1.0 kV) ...
日本JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於安全科學技術領域的分析儀器,於2007年11月13日啟用。技術指標 放大倍數5-10萬倍;三級物鏡光欄;高低真空切換;加速電壓0.5→30KV。主要功能 金屬材料,納米材料,微觀形貌分析及微區成份分析。
台式顯微能譜一體機是一種用於農學、林學、食品科學技術領域的分析儀器,於2019年1月22日啟用。技術指標 放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,光學放大20-135倍、電子放大150,000倍(非數字放大)。背散射電子探測器解析度:優於10nm。加速...
掃描式測試電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2017年1月17日啟用。技術指標 放大倍率:25~19000(LEI模態) 100~65000(SEI模態) ,可觀測範圍:x:0~70mm; y:0~50mm z::1.5~25mm。主要功能 (1)EDX/Material ...
紅外掃描光譜顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2015年4月22日啟用。技術指標 原子力顯微鏡掃描範圍(100微米*100微米);掃描精度(0.2納米);近場光學空間解析度(10-30納米);中紅外照明單元(9.2微米-10.7微米)。主要...
掃描電子顯微電鏡是一種用於化學學科領域的電子光學儀器,於2016年3月15日啟用。技術指標 解析度:二次電子(SE)像 15 kV時優於1.0 nm;1 kV時優於1.4 nm(非減速模式) 背散射(BSE)像: 1 kV時優於3.5 nm;15 kV時優...
全自動擴散泵DP。主要功能 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統合於一體。結構緊湊的EDS由顯微鏡主體系統的電腦控制,操作員只用一隻滑鼠,就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。
掃描發射電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2007年9月28日啟用。技術指標 解析度二次電子(SE)成像:高真空模式:30kV時 1.2 nm;1kV時 3.0nm 低真空模式:30kV時 1.5 nm;3kV時 3.0nm ESEM?環境真空模式: 30kV時...
高真空掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2013年5月13日啟用。技術指標 電子槍: 鎢燈絲二次電子解析度: 30KV下3.0nm; 3KV下8.0nm 背散射電子解析度:30KV下3.5nm 加速電壓: 200V~30KV;探針電流﹕ 1pA至...