分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。
基本介紹
- 中文名:分析掃描電子顯微鏡
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年9月17日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。
分析掃描電子顯微鏡 分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。技術指標 加速電壓:5~30KV;樣品大小:80mm;解析度:5nm。主要功能 用於觀察樣品表層結構。
分析型掃描電子顯微鏡 分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年09月10日啟用。技術指標 放大倍數:5倍~30萬倍。主要功能 觀測樣品的表面、切面、斷面結構。
檢查過程 檢查過程一般是採集取樣,然後標本的製作,醫生在一定的時間內用掃描電子顯微鏡進行觀察細胞,然後得出圖像進行分析。相關疾病 水痘肺炎,手足癬,全身脂肪代謝障礙,腺病毒性腸炎,外陰神經鞘瘤,尿道肉阜,線粒體腦肌病,口腔念珠菌病,庫魯病,羊痘 相關症狀 病毒性腹瀉,嗜心性病毒感染 ...
第一台掃描電子顯微鏡是1938年由德國人M.von阿爾登研製成功的。通常掃描電子顯微鏡附有X射線能譜和波譜分析裝置,可在觀察形貌的同時,快速得出該區域的化學成分。另外,在掃描電子顯微鏡上還可進行電子通道花樣分析,從而可研究試樣微區的晶體學位向、晶體對稱性、應變程度和位錯密度等問題。在機械工業中,掃描電子顯微鏡...
分析電子顯微鏡是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。analytical electron microscope;AEM 是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有:可獲得透射電子圖像、掃描透射電子圖像、二次電子圖像、背散射電子圖像和X射線圖像,可用X射線能譜和電子能...
電子顯微鏡按結構和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用於物質成分分析;發射式電子顯微鏡...
掃描式測試電子顯微鏡 掃描式測試電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2017年1月17日啟用。技術指標 放大倍率:25~19000(LEI模態) 100~65000(SEI模態) ,可觀測範圍:x:0~70mm; y:0~50mm z::1.5~25mm。主要功能 (1)EDX/Material analysis (2)Cross Section。
掃描式電子顯微鏡是一種用於材料科學、紡織科學技術領域的分析儀器,於2016年10月28日啟用。技術指標 放大倍數:5-300000倍;解析度:高真空:3nm(30KV)/8nm(3KV)/15nm(1KV) 低真空:4.0nm(30KV) ;電子槍:全自動,亦可手動調整;樣品台:大全對中型X=80mm,Y=40mm,Z=5到48mm,傾斜:-10 - +90度,...
掃描電子顯微電鏡是一種用於化學學科領域的電子光學儀器,於2016年3月15日啟用。技術指標 解析度:二次電子(SE)像 15 kV時優於1.0 nm;1 kV時優於1.4 nm(非減速模式) 背散射(BSE)像: 1 kV時優於3.5 nm;15 kV時優於2.0 nm 放大倍率範圍:1 ~ 1,000,000倍。主要功能 材料的微觀組織觀察...
掃描式電子顯微鏡/掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 XY方向解析度為0.2nm,Z方向為0.01nm,最大掃描範圍150*150um。主要功能 利用針尖與樣品表面原子間的微弱作用來作為反饋信號,維持針尖與樣品間的作用力恆定,同時針尖在樣品表面掃描,從而得知樣品表面高低起伏。
掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年7月14日啟用。技術指標 第四代 Phenom Pro 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高解析度台式掃描電鏡。觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構,放大倍數要求可達130,000 倍。基於新一代高亮度 CeB6 燈絲和全新的聚焦系統,Phenom Pro的解析度輕鬆達到 14 nm,同時...
高真空分析型掃描電子顯微鏡 高真空分析型掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2012年10月31日啟用。技術指標 電鏡解析度3.5nm;能譜解析度139ev。主要功能 二次電子像,背散射像,成分分析。
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10.0nm;背散射電子(BSE)像解析度(VPwithBSD),30kV時優於4.0nm。2、放大...
高低真空掃描分析電子顯微鏡 高低真空掃描分析電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器,於2005年8月15日啟用。技術指標 高真空解析度:3.0nm in SEI、4.0nm in BEI;低真空解析度:4.0nm in BEI;放大倍數:x8-x300000;加速電壓:0.5~30kV;放大倍數誤差:8%。主要功能 納微觀測和分析。
具有高性能x射線能譜儀,能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學組分綜合分析能力。簡介 掃描電子顯微鏡因其解析度高、景深大、圖像更富立體感、放大倍數可調範圍寬等優點而被廣泛套用於半導體、無機非金屬材料及器件等的檢測。隨著我國經濟的迅速發展,高校、科研單位、企業等大量...
掃描電子顯微鏡和能譜分析儀是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年11月7日啟用。技術指標 1. 二次電子解析度:3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式);7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式); 2. 放大倍率:5-10000; 3. 最大樣品尺寸:最大樣品...
JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於生物學、物理學、化學、基礎醫學領域的分析儀器,於2019年7月6日啟用。技術指標 電子光學系統 二次電子解析度 3.0nm@30kV;8.0nm@3kV;15nm@1kV(鎢燈絲) 2.0nm@30kV;6.0nm@3kV;9nm@1kV(六硼化鑭) 背散射電子解析度 4.0nm @ 30kV低真空 發射源 預對中,具有自動加熱、...
放大倍數高(相對於光學顯微鏡)成像速度快 大景深 體積小巧(相對於落地式掃描電子顯微鏡)操作簡便 價格便宜 套用範圍 台式掃描電鏡用於各種樣品微細結構和特徵的形貌觀察,適用於生物樣品、醫學樣品、環境樣品、金屬材料、合金材料、陶瓷材料、吸附劑等的形貌觀察和微區分析。觀測沉積物礦物表面微觀面貌,還要對其表面...
掃描電子顯微鏡能譜分析儀器 掃描電子顯微鏡能譜分析儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2014年6月16日啟用。技術指標 最高解析度:≤3nm。 3X~1000,000X或者更寬,連續可調,從小到大任一倍數圖像不變形。主要功能 樣品全自動控制分析,實時計算機控制等功能。
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;放大倍率:×20 ~ ×800,000;可觀察二次電子像和背散射電子像。能譜儀部分:...
掃描式透射電子顯微鏡,是一種光學儀器。掃描式透射電子顯微鏡(scanning transmission electron microscope)使用高亮度的冷電子光源,匯聚成極細的電子探針後對樣品進行掃描,然後收集穿過樣品的電子,同時在樣品正方裝有電子能量分析器。這種電鏡既能觀察較厚、不染色的生物樣品,又可分析樣品各部分的元素組成。這種電鏡所...
掃描發射電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2007年9月28日啟用。技術指標 解析度二次電子(SE)成像:高真空模式:30kV時 1.2 nm;1kV時 3.0nm 低真空模式:30kV時 1.5 nm;3kV時 3.0nm ESEM?環境真空模式: 30kV時 1.5 nm 背散射電子(BSE)成像:30kV時 2.5 nm 放大倍數高真空模式: 12x...
超高分辨掃描電子顯微鏡 超高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月22日啟用。技術指標 15 KV:解析度0.8nm(工作距離4nm),1 KV: 1.1 nm(減速模式),5軸馬達自動驅動。主要功能 表面形貌分析和測量,端面膜厚測量,圖形測量。
1. 利用掃描透射電子顯微鏡可以觀察較厚的試樣和低襯度的試樣。2. 利用掃描透射模式時物鏡的強激勵,可以實現微區衍射。3. 利用後接能量分析器的方法可以分別收集和處理彈性散射和非彈性散射電子。4. 進行高分辨分析、成像及生物大分子分析。工作原理 STEM成像不同於一般的平行電子束TEM, EDS 成像,它是利用會聚...
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子圖像,觀察模式:高真空、低真空(3-260Pa),顯示解析度:觀察640×480,攝影...
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器,於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD );加速電壓:0.2-30KV ;放大倍數:5-1000000 x ;探針電流:0.5PA-5μA ;X-射線分析工作...
掃描電子式顯微鏡 掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
桌面掃描電子顯微鏡 桌面掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年7月4日啟用。技術指標 (1)、電子槍:六硼化鑭燈絲,燈絲壽命≥1000小時;(2)、放大倍數:30-100000倍;可數位放大:2倍、4倍;(3)、電子束電流:30pA-1nA,加速電壓:5kV/10kV/15kV。主要功能 表面形貌及能譜分析。
對於生物樣品、含水樣品、含油樣品,既不需要脫水,也不必進行噴碳或金等導電處理,可在自然的狀態下直接觀察二次電子圖像並分析元素成分。還可分析生物樣品和非導電樣品(背散射和二次電子像)、分析液體樣品以及土20°C內的固液相變過程觀察。簡要介紹 ESEM是環境掃描電子顯微鏡(EnvironmentalScanningElectronMicroscope)...