高真空分析型掃描電子顯微鏡

高真空分析型掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器，於2012年10月31日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空分析型掃描電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：化學、材料科學、冶金工程技術、物理學
• 啟用日期：2012年10月31日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

電鏡解析度3.5nm;能譜解析度139ev。

主要功能

二次電子像，背散射像，成分分析。