高低真空掃描分析電子顯微鏡

高低真空掃描分析電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器，於2005年8月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：高低真空掃描分析電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、化學
• 啟用日期：2005年8月15日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

高真空解析度：3.0nm in SEI、4.0nm in BEI；低真空解析度：4.0nm in BEI；放大倍數：x8-x300000；加速電壓：0.5~30kV；放大倍數誤差：8%。

主要功能

納微觀測和分析。