微納操縱及原位光電分析掃描電子顯微鏡系統

微納操縱及原位光電分析掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學、機械工程領域的分析儀器，於2015年11月25日啟用。

基本介紹

• 中文名：微納操縱及原位光電分析掃描電子顯微鏡系統
• 產地：捷克
• 學科領域：材料科學、機械工程
• 啟用日期：2015年11月25日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 光學顯微鏡

技術指標

高真空模式：30kV時優於1.0nm（SE），1kV時優於3.0nm（SE），30kV時優於2.5nm（BSE）；；低真空模式：30kV時優於1.4nm（SE），3kV時優於3.0nm（SE），30kV時優於2.5nm（BSE）；；環境真空模式：30kV時優於1.4nm（SE）；；2.電子槍：熱場肖特基電子槍，加速電壓0.2kV－30KV，最大束流200nA；；3.放大倍數：6倍－100萬倍。

主要功能

微納操縱及原位光電分析測試系統不僅可以實現對納米材料或器件的原位發光的檢測和電學物性的測試、納米尺度的精確操作和控制、以及特定納米光電子器件的構築，還可以實現實時原位研究微納材料和器件光電轉換過程的動態信息。