關於促進積體電路產業高質量發展的若干政策

為貫徹落實習近平總書記視察湖北重要指示和《國家積體電路產業發展推進綱要》精神,把武漢東湖新技術開發區(以下簡稱“東湖高新區”或“我區”)建設成為全國重要的積體電路產業聚集區,特制定本政策。

基本介紹

  • 中文名:關於促進積體電路產業高質量發展的若干政策
  • 頒布時間:2019年7月17日
  • 發布單位:武漢東湖新技術開發區管委會
第一條 凡在東湖高新區設立的主營業務為積體電路設計、製造、封裝測試、設備等企業,均可享受本政策。東湖高新區高起點規劃、高標準建設積體電路產業園,引導符合條件的積體電路企業向該園區集聚,保障要素供給,最佳化產業生態。
第二條 對總部在東湖高新區,首次成為全國設計十強、製造十強、封測十強、功率器件五強、MEMS五強、半導體設備五強的積體電路企業,給予一次性1億元獎勵。
第三條 對承擔國家重大科技專項的積體電路企業,給予其所獲國家撥款額50%的配套資助,累計資助金額不超過1000萬元。對成功掛牌的國家級積體電路研發中心提供一次性啟動經費支持,最高不超過1000萬元。
第四條 對進行工程產品流片的積體電路企業,按照掩膜版製作費用的50%或首輪流片費用的30%給予補貼,同一企業補貼金額每年最高不超過500萬元。
第五條 對購買IP(或Foundry IP模組)開展高端晶片、先進或特色工藝研發的積體電路企業,按照其購買IP實際支出費用的40%給予補貼,同一企業每年補貼金額最高不超過200萬元。對復用、共享我區第三方IC設計平台的IP設計工具軟體或測試分析系統的積體電路企業,按照其實際投入的50%給予補貼,同一企業每年補貼金額最高不超過100萬元。
第六條 對投資規模在5000萬元以上的積體電路企業的新建或技術改造項目,按照固定資產實際投入的10%給予補貼,同一企業補貼金額累計不超過3500萬元。
第七條 對企業在東湖高新區購置自用研發和生產用房,按照實付金額的10%給予補貼,同一企業累計不超過200萬元;在東湖高新區租用自用研發和生產用房,按照實付租金的50%給予補貼,同一企業每年最高不超過1000平方米,同一企業累計補貼期限不超過3年。
第八條 對我區整機企業首次採購東湖高新區內積體電路企業晶片或模組進行研發生產的,按照實際交易金額的20%對晶片或模組銷售企業給予補貼,同一企業每年補貼金額最高不超過500萬元。
第九條 對新建的積體電路公共平台,按照實際投資金額中項目自籌資金的30%給予補貼,同一平台補貼金額最高不超過500萬元;對經認定的積體電路公共服務平台服務中小型企業的,按照服務契約實際完成額的10%給予補貼,同一平台每年補貼金額最高不超過100萬元。
第十條 對不同層次的積體電路人才給予補助。支持高層次積體電路人才申報“3551光穀人才計畫”。對新招聘的積體電路相關專業的人才給予安家補助,補助標準為全日制碩士生每人3萬元,全日制博士生每人5萬元的獎勵,同一企業每年補貼金額最高不超過500萬元。給予積體電路企業新增研發人員3000元/人培訓補貼,同一企業每年補貼人數最高不超過500人次。
本政策由武漢東湖新技術開發區管理委員會負責解釋,自發布之日起實施,有效期三年。實施過程中,與國家法律法規和省市有關規定有衝突的,以國家法律法規和省市有關規定為準。

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