金屬真空熱沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年11月15日啟用。
基本介紹
- 中文名：金屬真空熱沉積系統
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2019年11月15日
- 所屬類別：工藝試驗儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
基板裝置： *標準的樣品盤可以容納4片20 mm × 26 mm蒸鍍基片 *掩膜板通過PLC程式控制氣動元件，每個基片可以對應2個掩膜圖案。 *掩膜板的變化不影響沉澱過程。掩膜板到基礎結構的公差取決於樣品槽的公差。 *樣品盤通過氣缸驅動離合以配合更換掩膜板。固定裝置以標稱30轉數／分的轉速旋轉時發生沉澱，這樣可以使基礎結構的一致性達到最大。 *在基片掩模盤裝置下提供兩個擋板（氣缸控制），擋板通過手動操作同時開啟與關閉。 蒸發源： *有12熱阻蒸發源，用於材料蒸發。有機、金屬通用，距基片大約35cm。12個蒸發源的位置按照R-D-matin-ME系列舟蒸發源設計。 *源與源之間配備隔板，可有效隔絕一定的溫度。每個源配備獨立的防污染擋板。 *3個低電壓大電流的TDK-lambda電源(1個 2.4kW GEN10-240 1個 1.44kW GEN8-180 1個 1.5kW GEN6-100 ),通過切換12個蒸發源，可完成叄源共蒸。 *TDK電源，最高升溫溫度可達1500℃，電流驅動加熱形式，可精確到0.1A，實現蒸鍍速率0.01 A/S的精度顯示。 電腦系統。
主要功能
在真空條件下蒸鍍有機材料和金屬，用於製備光電功能器件。
