磁控濺射覆膜系統

磁控濺射覆膜系統是一種用於材料科學、機械工程領域的分析儀器，於2015年12月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射覆膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學、機械工程
• 啟用日期：2015年12月24日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器
• 主要功能：進行薄膜的沉積以及金屬材料、非金屬材料的表面改性

技術指標

可以沉積金屬、金屬氧化物，理論最小厚度為單原子層，只能進行薄膜沉積，真空度8*10^-5，加熱溫度500度。

主要功能

主要功能是進行薄膜的沉積以及金屬材料、非金屬材料的表面改性。