全方位離子注入與沉積系統

全方位離子注入與沉積系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2017年11月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：全方位離子注入與沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2017年11月28日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

注入元素：非金屬：H+、N+、O+、Ar+、He+、Si+; 　 　金 屬：Ni+、Zr+、Mo+、Fe+。 　　基體材料：Al基、Ni基、Ti基合金及陶瓷等 　　注入維度：三維 　　注入溫度：≤600℃ 　　注入面積：φ50mm、φ150mm 　　注入層厚度：≤1μm 　　注入均勻性：1σ≤3%。

主要功能

採用固態金屬離子源，先分析後加速結構，水平偏轉7°的雙向電掃描，具備液氮冷卻和燈管加熱的高、低溫多工位靶台，片夾式手動裝卸片。可靠的安全聯鎖，計算機控制，自動運行，劑量實時監控。