多功能離子注入與沉積系統

多功能離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：多功能離子注入與沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2015年10月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

1真空室：全不鏽鋼結構: 2.真空抽氣系統 3.高能氣體離子源（一套）4.高能金屬離子源（一套）5.低能濺射離子源（一套）6.離子束濺靶 7.供氣系統 8.樣品台 9.電源和控制系統。

主要功能

本設備可用於研究開發納米級的單層及多層的金屬膜、合金膜、化合物膜、金屬化合物複合膜、半導體膜、摻雜膜、以及非金屬離子注入改性，金屬離子注入改性等，適合於基礎研究和小批量試製。具有如下功能： 1.薄膜沉積 2..離子注入 3.離子注入與沉積的複合。