熱蒸鍍系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2014年9月9日啟用。
基本介紹
- 中文名：熱蒸鍍系統
- 產地：美國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2014年9月9日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電路板製造工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
真空度1E-7Torr, 四靶源，可加熱至1800攝氏度。
主要功能
蒸鍍沉積金屬薄膜。
熱蒸鍍系統
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