大尺寸高溫化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月18日啟用。
基本介紹
- 中文名:大尺寸高溫化學氣相沉積系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2013年11月18日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 機加工工藝實驗設備
大尺寸高溫化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月18日啟用。
大尺寸高溫化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月18日啟用。技術指標1. 系統極度真空度: 低於0.5×10 Pa 2. 加熱系統: 沉積溫度達1600 ?C以上,1600 oC持續時間...
化學氣相沉積系統是一種用於電子與通信技術領域的電子測量儀器,於2011年11月28日啟用。技術指標 MCVD機械控制系統,包括:機架、石英管卡盤、載台移動和卡盤旋轉的DC伺服控制馬達、載台速度好位置的高精度編碼定位控制系統、水冷不鏽鋼N2氣...
化學氣相沉積監測系統是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2015年10月21日啟用。技術指標 BOL-10000|| ||LED光源,波長405nm,950nm和1050nm測量溫度範圍500-1200°C,精度+-1K940反射率測量精度+-0.2%。主要功能 線上的溫度...
1)在中溫或高溫下,通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上。2)可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質量較好)。3)採用等離子和雷射輔助技術可以顯著地促進化學反應,使沉積可在較低...
電漿增強化學氣相沉積系統是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年1月30日啟用。技術指標 (1) 極限真空為3×10-4 Pa;在真空室下方設一個氣體截流閥,截流閥連續可調,控制反應室的工作氣壓。襯底可升降200mm,襯底...
電漿化學氣相沉積是一種適合於前沿研究的薄膜製備技術也是一種用於納米技術研究的有效方法。典型的電漿化學氣相沉積套用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積各種薄膜。它可以對電路提供有效的保護和鈍化,在電子信息、納米科技、材料科學等...
石墨烯化學氣相沉積系統是一種用於電子與通信技術、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器,於2016年8月2日啟用。技術指標 1、全套石英器件,4條獨立控制氣路(氬氣、氫氣、高、低流量甲烷),氣體泄漏探測器。2、獨立三溫區,最高溫度...
微波電漿化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年7月8日啟用。技術指標 微波源N=1.5KW,f=2450MHz 連續可調。ECR離子發生器:調節微波輸出功率,磁場強度,偏壓,實現低氣壓放電;放電室:約Ф200×250(mm...
電漿化學氣相沉積及刻蝕系統是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年9月23日啟用。技術指標 極限真空度4×10-4 Pa 沉積均勻性≦±5% 樣品台加熱溫度≦300℃ 樣品台尺寸Φ290mm 射頻電源:1200W和...
金屬有機化學氣相沉積系統 金屬有機化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年3月20日啟用。技術指標 分子泵,超淨間。主要功能 蝕刻。
全自動電漿增強化學氣相沉積系統 全自動電漿增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2018年12月3日啟用。技術指標 PECVD-4000S。主要功能 全自動態分析。
電漿增強氣相沉積系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年12月20日啟用。技術指標 氣路:N2O, SiH4, NH3, CH4, O2, Ar, N2;清洗氣路: CF4/O2混合氣體;樣品尺寸:8英寸table,可沉積最大6英寸基片;射頻...
微波等離子化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年4月9日啟用。技術指標 本儀器最大管壓:60kV,最大管流:55mA,最大功率:2.2kW(Cu靶),角度重現性: ±0.0001度,掃描方式:θ/θ掃描方式,探測器:X`...
感應耦合式電漿增強型化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標 澱積SiO2,SiN,a-Si;厚度範圍10nm~1μm;均勻性10%。主要功能 低溫工藝,可在溫室下進行SiO2澱積。
熱絲化學氣相沉積是指用灼熱鎢絲加熱分解碳物質,激活化學氣相反應,製備金剛石膜的工藝方法。這種方法的特點是設備簡單,工藝條件較易控制,金剛石膜生長速率比化學輸運法快,因而很快在全世界的金剛石膜研究中得到廣泛套用,成為製備金剛石...