基本介紹
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微波電漿化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年7月8日啟用。技術指標微波源N=1.5KW,f=2450MHz 連續可調。ECR離子發生器:調節微波輸出功率,磁場強度,偏壓,實現低氣壓放電;...
微波電漿化學氣相沉積是使反應氣體的分子離化的微波。微波電漿 CVD (Microwave PCVD, MPCVD)將微波發生器產生的微波用波導管經隔離器進入反應器,並通入 CH4與 H2的混合氣體,在微波的激勵下,在反應室內產生輝光放電,使反應...
電漿化學氣相沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年1月4日啟用。技術指標 工藝溫度 300~350℃沉積速率 40nm/min膜厚均一性 ?2% (100mm樣品)?4% (200mm樣品)重複性 ?3% 折射率 (...
電漿化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。按產生電漿的方法,分為射頻電漿、直流電漿和微波電漿CVD等。簡介 電漿...
微波化學氣相沉積系統 微波化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年8月12日啟用。技術指標 微波功率5kW。主要功能 超寬頻隙半導體材料生長。
電漿化學氣相沉積裝置及診斷系統是一種用於動力與電氣工程領域的工藝試驗儀器,於2015年12月9日啟用。技術指標 一 PECVD裝置: 1.腔體極限真空度:10-5pa;2.設備總體漏放率:關機12小時真空度≤5pa;3.樣品與電極間距:40~100...
電漿化學氣相沉積及刻蝕系統是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年9月23日啟用。技術指標 極限真空度4×10-4 Pa 沉積均勻性≦±5% 樣品台加熱溫度≦300℃ 樣品台尺寸Φ290mm 射頻電源:1200W和...
1)在中溫或高溫下,通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上。2)可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質量較好)。3)採用等離子和雷射輔助技術可以顯著地促進化學反應,使沉積可在較低...
6.1.1微波在電漿中的傳播特性107 6.1.2微波電漿的電子能量吸收的計算109 6.2微波電漿化學氣相沉積系統112 6.2.1微波電漿化學氣相沉積系統112 6.2.2溶膠霧化微波電漿化學氣相製備薄膜材料115 6.3微波等離子化學...
全自動電漿增強化學氣相沉積系統 全自動電漿增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2018年12月3日啟用。技術指標 PECVD-4000S。主要功能 全自動態分析。
10.4微波電漿化學反應器 10.4.1表面波器件——Surfatron微波電漿反應器 10.4.2微波傳輸線電漿化學反應器 10.4.3電子迴旋共振微波電漿反應器 參考文獻 第十一章微波電漿合成化學 11.1微波電漿化學氣相沉積(M...
甚高頻電漿化學氣相沉積系統是一種用於材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2013年12月12日啟用。技術指標 6英寸矽基薄膜電池全自動工藝集成系統; 3個PECVD腔室 1個Sputter腔室; 極限真空:10-5Pa。主要功能 a-Si、nc-Si...
感應耦合式電漿增強型化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標 澱積SiO2,SiN,a-Si;厚度範圍10nm~1μm;均勻性10%。主要功能 低溫工藝,可在溫室下進行SiO2澱積。
本書為讀者提供基礎性、系統性和指南性的石墨烯化學氣相沉積生長知識,展示新研究成果,可供初涉利用化學氣相沉積方法製備石墨烯的研究生、科研人員、相關科技工作者使用,也可作為有志於從事石墨烯生長研究人員的實驗研究指南。圖書目錄 第 ...
2. 採用物理氣相沉積和化學氣相沉積系統中基於金剛石膜過渡層沉積cBN塗層,研究了襯底偏壓、反應氣體組分等對cBN沉積的影響。研究了基於氟化學的cBN化學氣相沉積機理,本項目在微波電漿化學氣相沉積系統中基於摻硼金剛石過渡層在Si3N4刀...
經過近10年的建設和運行,實驗室擁有了多種薄膜材料製備設備,如微波ECR電漿化學氣相沉積系統、雙頻RF-CCP/ICP化學氣相沉積系統、多靶磁控濺射系統、脈衝雷射沉積系統、雙離子束濺射系統等。實驗室還擁有多種薄膜材料的結構與性能的檢測...
武漢喜威鼎超強金剛石膜高科技有限責任公司於2000年05月09日成立。法定代表人陳庚清,公司經營範圍包括:微波電漿化學氣相沉積金剛石薄膜設備及零配件、金剛石薄膜、金剛石刀具、金屬製品、非金屬製品金剛石薄膜鍍膜生產、銷售;技術諮詢...
2007年,征世科技率先突破了全球領先的微波電漿化學氣相沉積法(MPCVD),極大提高了產品的品質、產能和火彩。2009年,研發了實驗室培育CVD原石鑽胚,工業用金剛石原石;2013年,培育出首飾級CVD單晶金剛石。2014年,上海征世科技股份有限...