箱式電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年9月10日啟用。
基本介紹
- 中文名:箱式電子束鍍膜系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2014年9月10日
- 所屬類別:分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器 > 旋轉薄膜蒸發儀
箱式電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年9月10日啟用。
箱式電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年9月10日啟用。技術指標製備膜層厚度精度<2%。1主要功能製備薄膜樣品。1...
電子束蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年11月17日啟用。技術指標 1 鍍膜腔體極限真空度 ≤ 5.0×10-9Torr 以真空計儀表顯示值為準2 預真空室極限真空度 ≤ 5.0×10-8Torr 以真空計儀表顯示值為準3 預真空室真空抽速 可在10分鐘之內抽到5E-6托 以真空計...
電子束光學鍍膜機系統 電子束光學鍍膜機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2005年1月1日啟用。技術指標 極限真空度8E-4Pa;光譜監控波長範圍1430nm至1630nm;光譜獲取時間少於50ms。主要功能 光學薄膜生長。
離子輔助電子束蒸發鍍膜機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月22日啟用。技術指標 箱式,前開門;內腔尺寸為710*850nm;採用oCr8Ni9不鏽鋼材質;陽極電壓為6-10KV;束流:0-800mA可調。主要功能 主要用於為實驗室承擔的基於薄膜結構的科研,提供在各種基底上鍍各種厚度為納米級的薄膜。
電子束鍍膜機是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年10月31日啟用。技術指標 技術指標: 1、真空腔室:寬約400mm,深約400mm,高約500mm,腔室表面做拋光處理。2、真空系統:帶有自動切換功能及互鎖機構。3、 電子槍: 有自動的控制和匹配單元。4、鍍膜控制單元:可以實現共蒸控制;可以儲存100個蒸鍍過程和...
電子束蒸發設備系統具有兩個真空腔室——磁控濺射腔室和蒸發腔室。磁控濺射腔室中配置了雙陰極輸出中頻電源(10KW),連線兩個孿生磁控靶,磁控靶為英國真科的閉合非平衡磁控靶。同時配置了30kW的偏壓電源,具有直流和脈衝兩種偏壓形式,最高電壓為1000V,最高電流為75A,頻率為1-30kHz。占空比為5~95%。磁控腔室...
離子輔助電子束蒸發鍍膜系統是一種用於物理學領域的海洋儀器,於2016年11月10日啟用。技術指標 六類四對非禁止雙絞線,305米/箱 六類模組化配線架-24口 六類跳線3米 機架式理線架-1U 多模OM3光纖跳線-3米LC雙工 多模OM3室內光纜-24芯 多模OM3光纖配線架-24口LC雙工 光纖熔接 布線管理軟體 IMU智慧型管理單元-...
大功率電子束鍍膜系統 大功率電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2008年11月26日啟用。技術指標 4槍,20kV,單槍40kW,雙坩堝。主要功能 防護塗層製備。
電子束蒸發鍍膜儀是一種用於材料合成領域的儀器,於2014年12月1日啟用。技術指標 1、 真空度< 2x10-7 Torr (可達到3.0×10-8 Torr)。2、 電壓源型號ST6;電壓2-10kV可調,電子束流0-0.6A。3、 樣品台可以適用於6英寸晶片。4、 電子槍離子電壓:100-1000eV。主要功能 1、 樣品襯底在蒸鍍前可以通過...
超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統 超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月6日啟用。技術指標 蒸發室和氧化室真空度可以達到1E-9 Torr的級別。生長的鋁膜製備的共面波導超導諧振腔的Q值平均值為50萬。主要功能 電子束蒸發高質量鋁膜。
電子束-熱阻真空鍍膜機 電子束-熱阻真空鍍膜機是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年3月1日啟用。技術指標 極限真空度5×10↑-6mbar;電子束和熱阻兩種方式;中心Z測量面積內膜厚平均不均勻性不超過±5.0%;3KVA。主要功能 可進行可控厚度薄膜的沉積。
真空電子束鍍膜機是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2018年3月6日啟用。技術指標 極限真空度:2.0×10-6Pa; 陽極電壓:6KV;束流範圍:0-750mA;啟動真空度:6.7×10-3Pa。主要功能 採用E型電子槍聚焦蒸發方式鍍膜。適用於鍍制納米結構的金屬膜、半導體膜、磁性膜、介質膜等,...
高真空電子束蒸發鍍膜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月14日啟用。技術指標 1.真空腔室:要求採用304不鏽鋼材質,尺寸不小於Φ565×H618mm;配方便拆卸的防污板;真空腔體整體水冷優良;2.真空系統:主泵採用具有不低於1700升/秒抽吸能力的高性能分子泵,前級泵採用無油乾泵; 主泵需採用國產或進口...
1.基片尺寸≤Ф12英寸2.電子槍功率:5-10KW3.極限真空度:5×10-5Pa4.真空抽速:3×10-4Pa/20min5.襯底溫度:350℃6.溫度均勻性:±10℃7.樣平台轉速:≤20r/min8.坩堝數量:49.鍍膜均勻性:±5%(Al)10.控制系統:PC+PLC全自動控制。主要功能 電子蒸發鍍膜機是一種普適鍍膜機,用於鍍制各種單層膜...
電子束熱蒸發鍍膜機是一種用於物理學、材料科學、機械工程領域的計量儀器,於2015年1月27日啟用。技術指標 腔體尺寸:600mm(直徑)×700mm(高);前級乾泵加低溫泵真空系統,30分鐘以內抽進10-4Pa,極限真空小於5x10-5Pa;樣品托盤6寸矽片向下兼容,至少裝載4寸3片或6寸;坩堝數量6個,單個容積不小於20cc;樣品最...
半自動電子束鍍膜機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年07月15日啟用。技術指標 極限真空:抽真空5小時後,可達 Pa;恢復真空:從 Pa至 Pa 約15min;烘烤溫度:最高溫度350℃;工件架旋轉:轉速5~25rpm可調。主要功能 主要用於多層光學薄膜的實驗製備。採用觸控螢幕和可程式控制器(PLC),配合...
電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材,使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜。蒸鍍原理 電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發...
高真空多功能磁控濺射電子束鍍膜系統 高真空多功能磁控濺射電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年6月23日啟用。技術指標 真空度:6.7×10-5Pa 加熱溫度:室溫~800oC 濺射功率:500W×3。主要功能 真空鍍膜。
高真空電子束蒸發鍍膜機是一種用於化學工程領域的工藝試驗儀器,於2014年11月12日啟用。技術指標 1、真空腔室:Φ600×650mm;立式前開門結構。2、真空系統:複合分子泵+機械泵系統,氣動真空閥門,“兩低一高”數顯複合真空計。*3、極限真空:優於6.67×10-5Pa;系統真空檢漏率:≤1×10-8PaL/s*4、抽速:...
雙電子束光學鍍膜機 雙電子束光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2009年9月1日啟用。技術指標 膜層控制精度:正負1nm;最大光學元件尺寸:Φ360mm;光譜均勻性:正負1%;。主要功能 採用物理氣相沉積的方法,主要進行多層氧化物薄膜的製備。
真空電子束蒸發鍍膜儀 真空電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年07月02日啟用。技術指標 直徑4英寸基片,片內均勻性優於±3%,片間均勻性優於±2%,重複性優於±2%。主要功能 蒸發沉積各種金屬和介質。
金屬鍍膜電子束蒸發台是一種用於信息科學與系統科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2016年4月4日啟用。技術指標 金屬鍍層厚度、均勻性。主要功能 電子束蒸發系統是化合物半導體器件製作中的一種重要工藝技術;它是在高真空狀態下由電子束加熱坩堝中的金屬,使其熔融後蒸發到所需基片上形成金屬膜。可蒸發很多難...
高真空雙電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2018年12月18日啟用。技術指標 1 極限真空≤5E-8Torr;2 抽速: 暴露大氣抽至1.5E-6Torr,時間不超過30分鐘;3 6英寸膜厚均勻性:優於+/-3%; 4 膜厚探頭監控精度:鍍膜速率0.01A/S;5 加熱器穩定精度:加熱溫度700℃,控制精度:+/-1...
箱式鍍膜機系列採用模組化設計,可根據用戶不同的要求進行各種組合,還可為各種特殊用途的客戶專門設計和製造各種非標準真空設備, 真空排氣台,真空爐, 電子束蒸發鍍膜機或磁控濺射鍍膜機。近年來,我公司已經在真空鍍膜替代傳統水電鍍方面做了大量的研發工作,比如在塑膠、不鏽鋼、鐵及銅材表面的真空鍍膜設備及工藝上取得...
32. 電子束輻照加工 33. 口腔科用設備及器具製造 34. 康復輔具器具製造 35. 頁岩氣裝備製造和油氣技術工程服務 36. 節能環保型建築用鋁合金模板產品開發、生產和套用 37. 高性能稀土永磁、發光、催化、合金等稀土功能材料及器件的開發、生產及套用 38. 40MW及以上燃氣輪機及關鍵輔機研發製造,分散式能源用小型...