真空電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年07月02日啟用。
基本介紹
- 中文名:真空電子束蒸發鍍膜儀
- 產地:美國
- 學科領域:物理學、材料科學
- 啟用日期:2014年07月02日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
直徑4英寸基片,片內均勻性優於±3%,片間均勻性優於±2%,重複性優於±2%。
主要功能
蒸發沉積各種金屬和介質。
真空電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年07月02日啟用。
真空電子束蒸發鍍膜儀 真空電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年07月02日啟用。技術指標 直徑4英寸基片,片內均勻性優於±3%,片間均勻性優於±2%,重複性優於±2%。主要功能 蒸發沉積各種金屬和介質。
高真空雙電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2018年12月18日啟用。技術指標 1 極限真空≤5E-8Torr;2 抽速: 暴露大氣抽至1.5E-6Torr,時間不超過30分鐘;3 6英寸膜厚均勻性:優於+/-3%; 4 膜厚探頭監控精度:鍍膜速率0.01A/S;5 加熱器穩定精度:加熱溫度700℃,控制精度:+/-1...
電子束蒸發源:8kW,2MHz 晶圓尺寸:最大6英寸 真空度:10E-7Torr 蒸發物料:Ti、Au等 典型沉積速率:0.1-10A/s 樣品台最大傾斜角:±45° 樣品台工作距離:40-60cm。主要功能 高真空電子束蒸發鍍膜儀利用經過磁場偏轉的高能量電子束對蒸發物料進行電子加熱,蒸發材料揮發後沉積到樣品表面,沉積成薄膜材料。