真空電子束鍍膜機是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2018年3月6日啟用。
電子束蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年11月17日啟用。技術指標 1 鍍膜腔體極限真空度 ≤ 5.0×10-9Torr 以真空計儀表顯示值為準2 預真空室極限真空度 ≤ 5.0×10-8Torr 以真空計儀表顯示值為準3 預真空室真空抽速 可在10分鐘之內抽到5E-6托 以真空計...
真空熱蒸發鍍膜機是從事有機/高分子光電器件領域研究必不可少的設備之一，主要用來將金屬或者有機物等材料在高真空環境下蒸發到襯底表面形成均勻薄膜。本實驗室根據研究方向，選擇的真空蒸鍍系統將金屬和有機熱蒸發鍍膜機和手套箱集成到一起，配備了電子束蒸發和熱蒸發兩種蒸發源，同時實現了低熔點和高熔點金屬的蒸鍍...
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡述 真空鍍膜是真空套用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新...
真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑膠表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。加熱金屬的方法：可以利用電阻產生的熱能，也可以利用電子束。在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬...
電子束曝光在半導體工業中被廣泛使用於研究下一代超大規模積體電路。簡介 電子束曝光的基本結構，從上往下依次為：電子槍、電子槍準直系統、電磁透鏡、消像散器、偏轉器、物鏡、光闌（Aperture）、電子探測器、工作檯（stage）以及真空泵（離子泵、分子泵、機械泵）。電子槍：高解析度的熱場發射，配有高壓，電子束的...
①真空鍍金屬。是一種將蒸發物質加熱的方法。其中包括常用的電阻加熱法，電子束加熱法，高頻感應加熱法以及雷射光束加熱法等。②分子束蒸發法。在極高真空中分析其鍍膜的增長，並以單位原子層能級控制其鍍金屬膜的形成的方法。③離子鍍。將待蒸發物質置於等離子狀態中.並將其產生的離子供鍍金屬之用的方法。④離子束...
蒸發源是用來加熱膜料使之氣化蒸發的部件。真空蒸發使用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、高頻感應加熱、電弧加熱和雷射加熱等五大類。加熱方式 真空蒸鍍使用的加熱方式主要有：電阻加熱、電子束加熱。射頻感應加熱、電弧加熱和雷射加熱等幾種。不論哪一種加熱方式，都要求作為蒸發源的材料具有以下性能：熔點高；...
蘭真牌高真空油蒸汽流泵為國內公認的名牌產品，並達到國際先進水平。蘭州真空自1965年由上海內遷以來，一直為國防科技工業研製生產各種真空設備及低溫液體儲運容器。蘭州真空曾研製生產了我國第1台大型無油超高真空抽氣機組，第1台超高真空電子束擴散焊機，第1台大型天文望遠鏡真空鍍膜機，第1台低溫液氫燃料稱重計量容器...
開啟活化極電源、關閉氬氣，通人反應氣體氮氣，真空度調至(2~5)X10 2Pa。工作偏壓仍為1000V。最後接通電子槍電源。一般槍電壓10kV,束流0.3~1A。電子束達到坩堝後，其動能轉為熱能將金屬加熱、燕發，此時工件和活化電極上都產生輝光。隨著電子來電流的增加和活化極電壓的升高，輝光強度增大、活化極電流增大、工件...
在平板顯示器件、真空電子器件和信息光子器件研究與開發方面，擁有一批功能完善、性能先進的實驗裝備和設計軟體，儀器設備總價值4000餘萬元。實驗室現有大型儀器設備包括：電子束蒸發真空鍍膜機，多功能磁控濺射儀，雷射分子束外延機，精密絲網印刷機，表面形貌分析儀，高溫燒結爐，時空分辨真空紫外光譜測量系統，超快非線性...
由於電子束和離子束易於實現精確的控制，所以可以實現加工過程的全自動化，但是電子束和離子束的聚焦、偏轉等方面還有許多技術問題尚待解決。特點 1.是一種精密微細的加工方法。2.非接觸式加工，不會產生應力和變形。3.加工速度很快，能量使用率可高達90%。4.加工過程可自動化。5.在真空腔中進行，污染少，材料...
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。基本內容 電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環行)、由電子發射源(通常是熱的鎢陰極作電子源)、電子加速電源、坩堝、磁場線圈、冷卻水套等組成。膜料放入水冷增禍...
PC料耐溫130度，只有“真空電鍍+UV油光固”才可達到耐130度高溫要求。而一般的水電鍍是無法對PC料進行電鍍的！真空電鍍工藝 真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑膠表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。在對...
光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以套用於塑膠製成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、...
鉭，鎢，鉬，鉿，鉻銀等單一金屬靶材、高純合金靶材、蒸發材料、濺射靶材、特種靶材等各類靶材。鍍膜材料設備：冷等靜壓機，熱等靜壓機，高溫釺焊爐，燒結爐，中頻感應爐，電子束區熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釺焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等 其它表面工程設備及材料；顧問服務和其他服務品、相關出版物及網路。
1.6.1電子工業用薄膜7 1.6.2光學工業中套用的各種光學薄膜7 1.6.3光伏產業中薄膜的套用8 1.6.4刀具行業中薄膜的套用8 1.6.5機械、化工、石油等工業中套用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜8 1.6.6有機分子薄膜9 1.6.7民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜9 1.7真空鍍膜的發展歷程及最新進展9 參考文獻10 ...
2．2．1 真空蒸發鍍膜的物理過程 2．2．2 蒸發過程中的真空條件 2．2．3 鍍膜過程中的蒸發條件 2．2．4 殘餘氣體對膜層的影響 2．2．5 蒸氣粒子在基片上的沉積 2．3 蒸發源 2．3．1 電阻加熱式蒸發源 2．3．2 電子槍加熱蒸發源 2．3．3 感應加熱式蒸發源 2．3．4 空心熱陰極電子束蒸發源 2．...
鍍膜工藝 在現代真空電子器件製造過程中，鍍膜工藝套用很廣。鍍膜工藝包括真空蒸發、濺射、離子塗敷及化學氣相沉積等。在製作攝像管、光電倍增管時，各類透明導電膜、光電陰極和光導靶面材料採用真空蒸塗的方法製成。顯像管螢光膜內表面常蒸鋁膜以防止螢光膜灼傷，也可提高管子的亮度和對比度。現代鍍膜工藝也被用來改變...
314空心熱陰極電漿電子束蒸發源 315感應加熱式蒸發源 316雷射加熱式蒸發源 317輻射加熱式蒸發源 318蒸發源材料 319蒸發源的發射特性及膜層的厚度分布 32濺射靶 321濺射靶的結構及其設計要求 322濺射靶材 參考文獻 第4章真空蒸發鍍膜 41真空蒸發鍍膜技術 4...
自2022年公司成立，公司完全自主設計製造分子束外延設備（MBE）、全自動磁控濺射設備、電子束鍍膜機、OLED有機半導體發光材料及器件的研究和中試成套裝備，採用磁控濺射與電漿增強化學氣相沉積PECVD技術，設計製造了團簇式太陽能薄膜電池中試線；採用熱絲法，設計製造金剛石薄膜製備設備；設計製造高真空電阻熱蒸發鍍膜機...
（二）卷繞式真空鍍膜機 （三）潤濕烙燙分切機 （四）螢光燈排氣機 真空獲得設備 渦輪分子泵 旋片式機械真空泵 制瓶設備 六組雙滴料行列式制瓶機 光刻設備 φ75半自動光刻機 φ100大面積光刻機 鍍膜設備 三源電子束鍍膜機 箱式真空鍍膜機 新產品試驗室 配電 供電 空壓機站 天然氣站 車隊 計算機室 技術檔案...
實驗室擁有固態源分子束外延、氣態源分子束外延、氣相沉積、超高真空電子束鍍膜、準分子雷射沉積等大型薄膜材料製備系統,還有X射線四晶衍射、低溫傅立葉變換光譜、光柵光譜、霍爾測試、電化學C-V測試、原子力顯微鏡、半導體器件參數測試儀、雷射器參數測試儀等完整配套的分析測試儀器和器件...
北京長城鈦金公司 北京長城鈦金公司於1987年06月24日成立。法定代表人王殿儒，公司經營範圍包括：技術開發、服務、諮詢、推廣；銷售真空離子鍍膜機、電子束鍍膜機等。
離子鍍膜的優點如下：①膜層和基體結合力強，反應溫度低。②膜層均勻，緻密。③在負偏壓作用下繞鍍性好。④無污染。⑤多種基體材料均適合於離子鍍。反應性離子鍍 如果採用電子束蒸發源蒸發，在坩堝上方加20V～100V的正偏壓。在真空室中導入反應性氣體，如氮氣、氧氣、乙炔、甲烷等反應性氣體代替氬氣，或在此基礎...
焊接質量保證、新材料及表面技術六個研究室，擁有日本安川MOTOMAN機器人柔性加工系統、日本IHI的3KWYAG雷射焊機和數控加工系統、法國西雅基15KW60KV真空電子束焊機、微束等離子焊機、30KW真空擴散焊釺焊機、高速攝像機、小型計算機工作站，PS-220動態圖像分析儀（10K/S）、Thermorestor-w熱模擬機和多台PVD鍍膜機，並擁有...
設備主要用於用於大專院校和科研院所的科學研究及生產企業量產，其在半導體、微電子預納米技術、量子科學、數據存儲、超導電子、光電、及生物薄膜材料製備等研究和套用。產品介紹 北京德儀天力科技發展有限公司提供的磁控濺射鍍膜設備，真空度優於5E-8托，配備多靶，可用於濺射沉積金屬、氧化物、氮化物等材料的單層膜、...
課題組具備PECVD、真空管式爐、濺射、電子束蒸發等大型真空系統多套，以及手套箱、旋塗、噴塗、印刷等非真空鍍膜設備，同時具備完善的材料及器件測試表征平台。本人主要從事矽基（四主族碳、矽、鍺及其合金）薄膜材料及太陽電池、低維納米材料及器件、新型有機-無機複合光電子器件等領域的研究。目前指導博士生1名、...
（2）鉻金薄膜的蒸鍍生長。本文所研究的叉指電極結構採用鉻、金材料製作。首先需要在玻璃襯底上生長一層均勻覆蓋的薄膜。將上一步工藝過程中清洗好的玻璃片放入電子束蒸發鍍膜機中，抽真空後，先蒸鍍 50 厚度的鉻金屬層，再蒸鍍1000Å 厚度的金層，最後升溫到 300℃進行熱處理以增強鉻金層的黏附性。（3）...
