PVD(Programmable Voltage Detector),即可程式電壓監測器
基本介紹
- 中文名:可程式電壓監測器
- 外文名:Programmable Voltage Detector
PVD(Programmable Voltage Detector),即可程式電壓監測器
PVD(Physical Vapor Deposition)---物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、...
PVD(Programmable Voltage Detector),即可程式電壓監測器...... PVD(Programmable Voltage Detector),即可程式電壓監測器 中文名 可程式電壓監測器 外文名 Programma...
本書系統、全面地闡述了PVD(物理氣相沉積)塗層的發展歷史、技術原理、工藝流程及工程套用。全書共分7章,內容包括:PVD塗層的研究進展、PVD技術原理、PVD塗層技術工藝...
PVDF聚偏氟乙烯,外觀為半透明或白色粉體或顆粒,分子鏈間排列緊密,又有較強的氫鍵,氧指數為46%,不燃,結晶度65%~78%,密度為1.77~1.80g/cm3,熔點為172℃,...
摩凡陀德雋黑色PVD石英計時錶是一款瑞士石英計時機芯為機芯40毫米的手錶。...... 摩凡陀德雋黑色PVD石英計時錶是一款瑞士石英計時機芯為機芯40毫米的手錶。...
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著...
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術表示在真空條件下,採用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,並通過低壓氣體(...
玻璃體後脫離(PVD)指玻璃體後皮質從視網膜內表面分離,通常在玻璃體液化的基礎上發生。隨著玻璃體中央部的液化腔擴大,玻璃體後皮質層變薄並出現裂口,液化的玻璃體...
PVD 沉積到材料表面的附著力較CVD 差一些, PVD 適用於在光電產業,而半導體製程中的金屬導電膜大多使用PVD 來沉積,而其他絕緣膜則大多數採用要求較嚴謹的CVD ...
刀具塗層技術通常可分為化學氣相沉積(CVD)技術和物理氣相沉積(PVD)技術兩大類,分別評述如下。 一、CVD技術的發展 二十世紀六十年代以來,CVD技術被廣泛套用於硬質...
濺射(sputtering)是PVD薄膜製備技術的一種,主要分為四大類:直流濺射、交流濺射、反應濺射和磁控濺射。 PVD薄膜製備技術:濺射 原理如圖:...
因PVD法未超過高速鋼本身的回火溫度,故高速鋼刀具一般採用PVD法,硬質合金大多採用CVD法。硬質合金用CVD法塗層時,由於其沉積溫度高,故塗層與基體之間容易形成一層...
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition簡稱PVD) 是用物理的方法(如蒸發、濺射等)使鍍膜材料氣化,在基體表面沉積成膜的方法。除傳統的真空蒸發和濺射沉積技術外,還...
科匯於2001年在香港成立,是國內領先的PVD塗層服務供應商和方案解決商。成立十多年來,科匯一直秉承一切以客戶為價值為依歸的經營理念,始終處於穩健、高速發展的狀態...
王厚工,男1954年出生於上海,現任北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司物理氣相沉積(PVD)設備事業部技術總監,他擁有十多項專利,和發表了十多篇論文。2010...
PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作,因為限量以上的殘餘氣體會影響膜的成分和性質。為了實現鍍膜工藝,要求殘餘氣體的壓力為0.1~1Pa。 [1] ...