蒸發鍍膜

蒸發鍍膜常稱真空鍍膜。其特點是在真空條件下，材料蒸發並在玻璃表面上凝結成膜，再經高溫熱處理後，在玻璃表面形成附著力很強的膜層。目前有70 多種元素、50 多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作,因為限量以上的殘餘氣體會影響膜的成分和性質。為了實現鍍膜工藝，要求殘餘氣體的壓力為0.1～1Pa。

蒸發技術分為間歇蒸發與連續蒸發、直接電阻加熱蒸發和間接電阻加熱蒸發,連續生產與製造厚膜時採用連續蒸發加熱。一個入射的蒸氣原子在表面的滯留時間中,原子不斷地擴散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地衝擊表面,各個核都在增長，相鄰各核開始接觸進入聚結階段，直到形成連續膜。也可把上述過程劃分為小島階段、網路階段、孔階段及連續膜階段。