鍍膜材料

鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。

蒸發鍍膜

厚度影響因素

1。基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3. 蒸發功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小。

組分均勻性

蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由於原理所限，對於非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性

1。晶格匹配度

2。 基片溫度

3。蒸發速率

鍍膜材料

氧化物

一氧化矽SiO,二氧化矽SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

氟化物

氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

其它化合物

硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化矽SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料

高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純矽Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁矽合金AlSi等金屬鍍膜材料。

備註：生產的真空鍍膜材料均通過SGS認證，純度高，濺點少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強，抗腐蝕性強，顏色均勻等優點。。