電子束鍍膜機是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年10月31日啟用。
基本介紹
- 中文名:電子束鍍膜機
- 產地:加拿大
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2013年10月31日
- 所屬類別:分析儀器 > 波譜儀器 > 核磁共振波譜儀
電子束鍍膜機是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年10月31日啟用。
電子束鍍膜機是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年10月31日啟用。技術指標技術指標: 1、真空腔室:寬約400mm,深約400mm,高約500mm,腔室表面做拋光處理。2、真空系統:帶有自動切換功能及互鎖機構。...
電子束蒸發鍍膜儀是一種用於數學領域的分析儀器,於2014年12月1日啟用。技術指標 1、 真空度< 2x10-7 Torr (可達到3.0×10-8 Torr)。2、 電壓源型號ST6;電壓2-10kV可調,電子束流0-0.6A。3、 樣品台可以適用於6英寸晶片。4、 電子槍離子電壓:100-1000eV。主要功能 1、 樣品襯底在蒸鍍前可以通過...
半自動電子束鍍膜機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年07月15日啟用。技術指標 極限真空:抽真空5小時後,可達 Pa;恢復真空:從 Pa至 Pa 約15min;烘烤溫度:最高溫度350℃;工件架旋轉:轉速5~25rpm可調。主要功能 主要用於多層光學薄膜的實驗製備。採用觸控螢幕和可程式控制器(PLC),配合...
電子束熱蒸發鍍膜機是一種用於物理學、材料科學、機械工程領域的計量儀器,於2015年1月27日啟用。技術指標 腔體尺寸:600mm(直徑)×700mm(高);前級乾泵加低溫泵真空系統,30分鐘以內抽進10-4Pa,極限真空小於5x10-5Pa;樣品托盤6寸矽片向下兼容,至少裝載4寸3片或6寸;坩堝數量6個,單個容積不小於20cc;樣品最...
電子束光學鍍膜機系統 電子束光學鍍膜機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2005年1月1日啟用。技術指標 極限真空度8E-4Pa;光譜監控波長範圍1430nm至1630nm;光譜獲取時間少於50ms。主要功能 光學薄膜生長。
雙電子束光學鍍膜機 雙電子束光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2009年9月1日啟用。技術指標 膜層控制精度:正負1nm;最大光學元件尺寸:Φ360mm;光譜均勻性:正負1%;。主要功能 採用物理氣相沉積的方法,主要進行多層氧化物薄膜的製備。
離子輔助電子束蒸發鍍膜機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月22日啟用。技術指標 箱式,前開門;內腔尺寸為710*850nm;採用oCr8Ni9不鏽鋼材質;陽極電壓為6-10KV;束流:0-800mA可調。主要功能 主要用於為實驗室承擔的基於薄膜結構的科研,提供在各種基底上鍍各種厚度為納米級的薄膜。
高真空雙電子束蒸發鍍膜儀是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2018年12月18日啟用。技術指標 1 極限真空≤5E-8Torr;2 抽速: 暴露大氣抽至1.5E-6Torr,時間不超過30分鐘;3 6英寸膜厚均勻性:優於+/-3%; 4 膜厚探頭監控精度:鍍膜速率0.01A/S;5 加熱器穩定精度:加熱溫度700℃,控制精度:+/-1...
電子束蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年11月17日啟用。技術指標 1 鍍膜腔體極限真空度 ≤ 5.0×10-9Torr 以真空計儀表顯示值為準2 預真空室極限真空度 ≤ 5.0×10-8Torr 以真空計儀表顯示值為準3 預真空室真空抽速 可在10分鐘之內抽到5E-6托 以真空計...
箱式電子束鍍膜系統 箱式電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年9月10日啟用。技術指標 製備膜層厚度精度<2%。主要功能 製備薄膜樣品。
大功率電子束鍍膜系統 大功率電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2008年11月26日啟用。技術指標 4槍,20kV,單槍40kW,雙坩堝。主要功能 防護塗層製備。
離子輔助電子束蒸發鍍膜系統是一種用於物理學領域的海洋儀器,於2016年11月10日啟用。技術指標 六類四對非禁止雙絞線,305米/箱 六類模組化配線架-24口 六類跳線3米 機架式理線架-1U 多模OM3光纖跳線-3米LC雙工 多模OM3室內光纜-24芯 多模OM3光纖配線架-24口LC雙工 光纖熔接 布線管理軟體 IMU智慧型管理單元-...
電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材,使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜。蒸鍍原理 電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發...
雷射器腔面鍍膜機 雷射器腔面鍍膜機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月05日啟用。技術指標 鍍膜均勻性:卡具上片內均勻性優於+/-0.5%。主要功能 電子束蒸發方法鍍氧化矽、氧化鈦、氧化鋁。
超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統 超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月6日啟用。技術指標 蒸發室和氧化室真空度可以達到1E-9 Torr的級別。生長的鋁膜製備的共面波導超導諧振腔的Q值平均值為50萬。主要功能 電子束蒸發高質量鋁膜。
多功能離子鍍膜機 多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。技術指標 電子束電流200A,50V,磁控濺射5A,1000V,陰極電弧200A,60V。主要功能 用於功能薄膜的沉積和材料改性。
lock,用於製備各種高純金屬、氧化物以及超導薄膜,如Ti, Au, Al, Nb, NbN, Al2O3等。該設備電子束蒸發鍍膜腔和磁控濺射鍍膜腔相互獨立,集成了兩套系統的優點,而又避免了電子束蒸發和磁控濺射鍍膜的交叉污染。鍍膜室內可以注射氧氣,氬氣來實現清潔和氧化過程。整個製備過程由計算機控制,製備過程可自由編程。
公司生產的鍍膜機和真空設備產品處於國內領先、國際相當水平,擁有較高的技術含量,如箱式真空鍍膜機從直徑400mm-直徑3000mm各種尺寸均可製造。箱式鍍膜機系列採用模組化設計,可根據用戶不同的要求進行各種組合,還可為各種特殊用途的客戶專門設計和製造各種非標準真空設備, 真空排氣台,真空爐, 電子束蒸發鍍膜機或磁控...
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。基本內容 電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環行)、由電子發射源(通常是熱的鎢陰極作電子源)、電子加速電源、坩堝、磁場線圈、冷卻水套等組成。膜料放入水冷增禍...
高真空有機鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年12月01日啟用。技術指標 1. 極限真空度:4x10-5Pa;2. 充入乾燥氮氣抽至5x10-4Pa≤25min;3. 真空室漏率:漏率為關機12小時≤10Pa(新設備空載,極限真空後關機);4. 有機源可加熱至500-1000℃,金屬電極可加電流至150-300A,電子...
最後接通電子槍電源。一般槍電壓10kV,束流0.3~1A。電子束達到坩堝後,其動能轉為熱能將金屬加熱、燕發,此時工件和活化電極上都產生輝光。隨著電子來電流的增加和活化極電壓的升高,輝光強度增大、活化極電流增大、工件偏流增大。活化極電流可達15~40A,活化極電壓50~80V.調整適當的參數,可以獲得優質的氦化鐵等...
通過這項技術可望研製出高解析度與高生產率統一的電子束步進機,用於 100nm~50nm電子束曝光。相關工藝 光刻:襯底→甩膠→電子束曝光→顯影→定影→鍍膜→去膠→SEM觀察 抗蝕劑:PMMA:正膠。解析度高,對比度大,利於剝離,價格低;靈敏度低,耐刻蝕能力較差。HSQ:負膠。解析度高,鄰近效應小,靈敏度低。對...
光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較先進的技術,如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜,而且可以套用於塑膠製成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、...
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡述 真空鍍膜是真空套用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新...
的深亞微米、納米加工實驗研究線已經形成;各種先進加工設備和檢測設備共有20多台,總共價值1億多元;建立了國內最早的納米加工實驗平台:裝備了解析度30nm的JEOL JBX-5000LS電子束光刻系統,解析度350nm的MEBES 4700電子束製版系統,JBX-6AII電子束製版系統,光學製版系統,反應離子刻蝕機,電子束鍍膜系統,光學曝光...
真空熱蒸發鍍膜機是從事有機/高分子光電器件領域研究必不可少的設備之一,主要用來將金屬或者有機物等材料在高真空環境下蒸發到襯底表面形成均勻薄膜。本實驗室根據研究方向,選擇的真空蒸鍍系統將金屬和有機熱蒸發鍍膜機和手套箱集成到一起,配備了電子束蒸發和熱蒸發兩種蒸發源,同時實現了低熔點和高熔點金屬的蒸鍍...
SUSS MA 6雙面對準光刻機 Princision Imprint PI-D01納米壓印機 熱處理設備 SVS OV-12 HMDS 烘箱 旋塗設備 SUSS高性能塗膠機I Laurell 650-8N高性能塗膠機 測試設備 Ocean Optics 可見光膜厚測量儀 薄膜I區 薄膜沉積設備 Denton電子束蒸發鍍膜設備 Denton多靶磁控濺射鍍膜系統 HARRICK等離子清洗機 微納圖形加工...
TDM-200晶控膜厚儀適用於高頻濺射、直流濺射、電阻蒸發、離子束、電子束等鍍膜套用場合,線上測量膜層的厚度,可用於批量生產,也可用於薄膜材料研究。本儀器具有高速高精度測量系統,可提高鍍膜的質量和可重複性,具有精確穩定、易於操作、配置靈活的特點。還提供了監測和控制功能,您可通過液晶顯示屏連續獲取沉積速率、...
DM-300石英晶體膜厚儀:一種監控裝置 基本信息 TDM-300膜層監控儀適用於高頻濺射、直流濺射、電阻蒸發、離子束、電子束等鍍膜套用場合,可對共沉積鍍膜進行多源同步監控,或對大面積鍍膜進行多點監控。儀器提供了完備的監測和控制功能, 具有高速高精度測量系統,保證鍍膜的質量和重複性。通過液晶顯示屏使您能連續獲取...
公司擁有一支技術精良的研發團隊,並聘請國內外多位知名專家為技術顧問,具備較強的自主研發能力,現已研發製造真空蒸發鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧複合離子鍍膜機、真空光學(電子束蒸發)鍍膜機等系列真空鍍膜設備。佳能真空多年來憑著優質的產品和周到的售後服務,深受...