多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。
基本介紹
- 中文名:多功能離子鍍膜機
- 產地:中國
- 學科領域:物理學
- 啟用日期:2008年9月3日
- 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器
多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。
多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。技術指標電子束電流200A,50V,磁控濺射5A,1000V,陰極電弧200A,60V。1主要功能用於功能薄膜的沉積和材料改性。1...
KyKy多功能真空離子鍍膜機是一種用於工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術領域的分析儀器,於2005年11月14日啟用。技術指標 鐘罩尺寸:內徑Φ250mm×高度340mm 玻璃處理室:內徑Φ88mm×高度140mm 內徑:Φ88mm×高度57mm 試樣台尺寸:Φ40mm(最大) 金靶尺寸:Φ38mm 真空度:優於2×10-3Pa 試樣運動方式:...
全自動電弧離子鍍膜機是一種用於機械工程領域的儀器,於2016年5月3日啟用。技術指標 極限壓強:優於5×10-4Pa; 抽速:大氣到5×10-3Pa抽氣時間小於25分鐘 升壓率:≦0.4Pa/hr 可實現膜層類型: 氮化物(TiN、CrN、ALTiN) 含矽氮化物(ALCrSiN) 含氧氮化物(摻氧CrN、ZrBON)。主要功能 用於各種新型多...
離子輔助電子束蒸發鍍膜機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月22日啟用。技術指標 箱式,前開門;內腔尺寸為710*850nm;採用oCr8Ni9不鏽鋼材質;陽極電壓為6-10KV;束流:0-800mA可調。主要功能 主要用於為實驗室承擔的基於薄膜結構的科研,提供在各種基底上鍍各種厚度為納米級的薄膜。
真空多弧離子鍍膜設備 真空多弧離子鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年12月08日啟用。技術指標 最高溫度500℃;極限真空6*10E-4Pa。主要功能 樣品鍍膜。
多功能磁控濺射鍍膜是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2014年05月09日啟用。技術指標 系統極限真空:濺射室:系統經烘烤,可達8×10-6Pa;永磁靶直徑Φ50㎜, 直流電源一台;樣品可自轉,一次可鍍一片;樣品可加熱300℃;採用計算機控制鍍膜系統; 二路質量流量計控制進氣;流量0~100...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。簡介 需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面...
目前很多手機上的金屬外觀件,都採用PVD真空離子鍍,不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過比較貴,成本較高。濺射鍍:磁控濺射鍍膜設備:磁控濺射鍍膜設備是一種多功能、高效率的鍍膜設備。可根據用戶要求配 置旋轉磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈衝疊加式偏壓電源等,組態靈活、用途廣泛,主要...
系統極限真空:≤1×10-4Pa;濺射離子源:離子能量:1000-4000eV;離子束流:60mA;襯底基片台:離子束濺射室上安裝有樣品加熱、水冷轉盤。可分別放置四塊樣品,樣品尺寸最大為Ф30mm。配有樣品擋板。主要功能 單室結構的高真空多功能離子束濺射鍍膜設備,可用於開發納米級的單層及多層功能膜:各種硬質膜、金屬膜、...
光學鍍膜機 光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的工藝試驗儀器,於2012年5月1日啟用。技術指標 膜層控制精度:正負1nm;最大光學元件尺寸:Φ700mm;光譜均勻性:正負1%。主要功能 實現多層光學薄膜的精確製備。
原冷水塘工業區),其地理環境優越,交通便利,深圳、東莞廠房總面積達18000平方米,職工總人數為1000多人,其中專業技術人員150餘人,真空電鍍機10台,磁控濺鍍機2台,離子濺鍍機2台,NCVM(不導電)/真空電鍍/濺鍍多功能三用機2台,注塑機20台,鐳雕機5台,移印機6台,燙金機2台,高精密絲印機6台,絲印生產...
陳若珠,女,漢族,生於1963年,山西省萬榮縣人,正高級工程師,控制科學與工程學科碩士研究生導師。個人簡歷 1984年畢業於西安交通大學電子工程系。個人成就 1984年7月在航天部510所工作,參與多功能離子鍍膜機項目獲得國家科技進步二等獎。1989年6月在甘肅工業大學機械工廠從事舞台機械的控制系統的設計安裝調試工作,...
公司鍍膜設備研究中心擁有一支精良的技術力量隊伍,開發能力強大,著力於新產品的研發試製以及薄膜工藝的研究與膜層檢測,中心充分消化吸收國內外先進技術,研發設計製造真空鍍膜系列專用設備、光學鍍膜系列專用設備、射頻鍍膜系列專用設備、磁控濺射鍍膜系列專用設備、多弧離子鍍膜系列專用設備、多功能真空鍍膜機系列專用設備等...
早在1978年,本研究方向的“全液壓清岩機研究”項目就獲得全國科學大會的“優秀科技成果獎”。多年來,這一研究方向的學術特色有了新發展,承擔了一批國家和省部級科研項目,獲得了多項科研成果,其中“TB3000型標誌車研製”獲交通部科技進步三等獎;“水泥路面多功能養護機械”獲陝西省科技進步一等獎;“瀝青拌和...
實驗室重點設備有D8-Discover型高分辨X射線衍射儀、MTS納米壓痕儀、射頻探針系統、LWS-500型雷射焊接系統、超高真空多功能磁控濺射系統、微波ECR電漿源離子注/滲系統、微摩擦磨損試驗機、ECR-電漿增強MOCVD系統 (ESPD-U)、射頻感應耦合電漿裝置、強流脈衝電子束裝置(低能電子炮)、Bulat-6 型多弧離子鍍...
根據2020年10月研究所官網顯示,核工業西南物理研究院成都同創材料表面新技術工程中心主要設備有多功能視線離子注入機、生物離子注入機、多功能離子注入機、全方位離子注入機、全方位離子注入/沉積系統、汽車零部件專用鍍膜機、車燈保護膜鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、非平衡磁控濺射鍍膜機、工模具離子鍍膜機...
彭傳才,男,1939年2月出生。現任國防科技大學八達薄膜技術研究所教授、總工程師。主要成就 發明"反應離子鍍銦錫氧化物膜工藝技術"、"金屬陶瓷多功能護目鏡"、"多功能明亮保健眼鏡片"、"多用途駕駛眼鏡片"、"安全駕駛眼鏡片"、"多功能寬頻增透眼鏡片"、"雙端磁控濺射離子鍍膜機"、"柔性卷繞鍍膜機"、"低輻射膜...
實驗室占地4000平方米,各類設備總值3105萬元,擁有超薄切片機、高精度電化學綜合測試系統、微區掃描電化學工作站、納米螺旋碳纖維半連續製備實驗裝置、高分辨掃描電子顯微鏡、高分辨原子力顯微鏡、X射線螢光分析儀、多弧離子鍍膜機裝置、超高真空多功能磁控濺射設備、儀器化納米壓入系統、MFT-3000微動腐蝕試驗機等各種大型...
主要大型儀器設備有:金屬有機化合物氣相沉積(MOCVD)系統、微波電漿增強化學氣相沉積(MPECVD)系統、電漿增強化學氣相沉積(PECVD)系統、磁控濺射系統、反應離子刻蝕機、光刻機、高精度絲網印刷機、大型高精度點膠機、高精度噴砂機、多功能鍍膜機、掃描探針顯微鏡、掃描電子顯微鏡、台階輪廓測試儀、三維視頻...
八、光固化塗料在真空鍍膜中的套用168 九、BOPET薄膜的印刷、鍍鋁性能和影響因素及其產品的套用173 十、太陽能電池塑膠薄膜的鍍鋁工藝與技術實例178 第四章真空鍍鋁薄膜設備與儀器180 第一節概述180 一、真空鍍膜機鍍膜181 二、真空鍍膜技術及設備近兩百年發展歷史182 三、真空鍍膜(鍍銀)設備與多功能鍍膜技術183 四...