光學鍍膜機

光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的工藝試驗儀器，於2012年5月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：光學鍍膜機
• 產地：日本
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學
• 啟用日期：2012年5月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

膜層控制精度：正負1nm；最大光學元件尺寸：Φ700mm；光譜均勻性：正負1%。

主要功能

實現多層光學薄膜的精確製備。