鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年7月25日啟用。
基本介紹
- 中文名:鍍膜機
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2014年7月25日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 汽車工藝實驗設備 > 紅外線汽車排氣分析儀
鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年7月25日啟用。
玻璃鍍膜機是利用物理氣相沉積技術在玻璃表面形成一層具有特殊功能的薄膜的設備。設備常用於改善玻璃的光學性能、機械性能、化學性能和耐候性等方面。其在架體上部設有作為動力源的電機減速器,包括導軌、滾珠絲槓、滑座、滾輪及螺母,滾珠絲槓一端與電機減速器相連線,另一端插在架體底部的軸承座內,滑座通過螺母連線...
鍍膜機 鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年7月25日啟用。技術指標 極限真空:8.0×10-5Pa, 基片台尺寸Φ200mm 可鍍空間Φ300mm×H300mm 可鍍空間Φ500mm×H600mm。主要功能 鍍薄膜。
磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年03月26日啟用。技術指標 1.配裝3支Ф2英寸的磁控濺射靶,其中一支可鍍鐵磁材料。2.磁控濺射靶射頻(RF)、直流(DC)兼容。3.每隻磁控濺射靶均配備擋板,基片配擋板。4.極限真空:5*10-5Pa;工作背景真空:7*10-4Pa.5.基片尺寸≤Ф4英寸。6...
高真空磁控濺射鍍膜機 高真空磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的科學儀器,於2013年3月25日啟用。技術指標 設備共有3腔(反濺腔、濺射腔、氧化腔) 8靶 極限真空可達到5*10-6Pa,能進行2英寸晶圓鍍膜。主要功能 可通過直流濺射和射頻濺射對不同的靶材進行濺射沉積鍍膜。
全自動磁控濺射鍍膜機是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年7月26日啟用。技術指標 極限真空:7×10-5Pa ;,恢復真空:3×10-3Pa≤30min ,系統漏率:停泵關機12小時後真空度≤5Pa。,真空系統:分子泵+直聯泵或機械泵,基片加熱:加熱範圍從室度~400℃連續可調可控,控溫精度±1%, ,靶的結構...
浸漬提拉鍍膜機又稱垂直提拉機,是一款專門為液相製備薄膜材料而設計的精密儀器,可在不同液體中浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續可調;對鍍膜基質無特殊要求,運行穩定,可極大提高實驗精度與實驗效率。適用於矽片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料...
有機真空鍍膜機是一種用於化學、物理學、藥學領域的科學儀器,於2013年12月11日啟用。技術指標 (1)實驗機尺寸:2800mm*1400*171mm(2)控制系統尺寸:900mm*900mm*1710mm(3)真空腔體尺寸:2710mm*900mm*950mm(4)真空泵:TMP(800L)3台&DryPump(ESR100)1台(5)工件安裝為磁吸式(6)有機膜和金屬膜的線...
全自動電弧離子鍍膜機是一種用於機械工程領域的儀器,於2016年5月3日啟用。技術指標 極限壓強:優於5×10-4Pa; 抽速:大氣到5×10-3Pa抽氣時間小於25分鐘 升壓率:≦0.4Pa/hr 可實現膜層類型: 氮化物(TiN、CrN、ALTiN) 含矽氮化物(ALCrSiN) 含氧氮化物(摻氧CrN、ZrBON)。主要功能 用於各種新型多...
真空鍍膜機檢漏是用於檢測產品密封性的機器,是指在鍍膜機內部的真空下降到一定程度的時候,如0.5 mbar以下的時候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標準保養時動到的部位。這時需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化。當漏率上升或漏率值變化劇烈的時候,及時指出漏點所在位置,並做記號。產生背景 福建最大的...
多弧離子鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月15日啟用。技術指標 真空室尺寸:單室,ø1000*1000mm2,有效鍍膜空間:ø600*600mm2 抽真空時間:<15min(室溫空真空室從大氣壓抽到4.0*10-3Pa) 極限壓力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1...
卷繞磁控濺射鍍膜機是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的科學儀器,於2004年12月1日啟用。技術指標 極限真空度:6.67*10-4Pa,恢復真空時間:10分鐘,由105~10-1 Pa 基材:聚酯薄膜,幅寬400mm,最大圈徑φ400mm,圈繞線速度:0.5~2m/min,單方向卷繞,直流矩形平面磁控濺射靶(二個)...
自由懸浮鍍膜機是一種鍍膜機。技術參數 優點 ◎創新的懸浮鍍膜設計,節省更多的換卷與清理時間用於鍍膜生產;◎領先世界的鍍膜速度,無與倫比的效率,提高產能50—80% ;◎真正實現無鍍空線,無邊線,無褶皺,無鋁渣飛濺,無污染;◎鍍膜更均勻,冷卻效果更好,薄膜的熱變形最小,表面張力不衰減;◎尤其適合低...
超硬質塗層(工模具)真空鍍膜機是一款真空鍍膜機。HTC系列PVD超硬質塗層(工模具)真空鍍膜機是當今世界上用於表面塗裝PVD膜層的先進專用設備,運用PLC及觸控螢幕實現自動化邏輯程式控制操作,設備結構合理、外觀優雅、性能穩定、操作達到人機對話,簡便,鍍出的膜層牢固且細密,是工業化生產的理想設備,其最大特點是它的...
物理氣相沉積鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年09月26日啟用。技術指標 玻璃基片尺寸:200mm×200mm.用高質量材料製造設備,廠家對關鍵部件使用的材料等級進行說明。利用傳遞裝置,能夠準確的在基片裝載腔室(預處理腔室)和濺射鍍膜腔室之間往返傳遞基片;有適當尺寸的觀察窗,便於觀察操作過程。...
PVD鍍膜機和配套清洗蛻膜設備 PVD鍍膜機和配套清洗蛻膜設備是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2008年11月1日啟用。技術指標 (1)TiN塗層,塗層厚度0.003~0.004mm(2)TiAlN塗層,塗層厚度0.003~0.004mm。主要功能 (1)退膜機 1台,用於塗層退鍍(2)吹砂機 1台,用於鍍膜前處理。
真空蒸髮捲繞鍍膜機是一種用於物理學、力學、信息科學與系統科學、計算機科學技術領域的物理性能測試儀器,於2019年12月16日啟用。技術指標 1、卷膜條件: 卷膜有效幅寬 1050mm 卷膜最大直徑 ф400mm 卷繞芯軸直徑 ф100mm(3寸不鏽鋼芯軸) 常用卷繞速度 0.5~10m/min 卷繞張力控制 5~50N 張力控制方式 直接...
自動真空鍍膜機 自動真空鍍膜機是一種用於物理學、動力與電氣工程領域的科學儀器,於2009年08月01日啟用。技術指標 極限真空:3×10-4Pa 恢復真空5×10-3Pa≤15min ¢800mm。主要功能 光學介質膜;金屬膜等。
多功能真空鍍膜機是一種用於物理學、材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2019年11月22日啟用。技術指標 電子槍蒸發源:一把成都金雅客公司電子槍,6孔坩堝,每孔40cc容量,電子槍位於真空室下部;電子槍冷卻水流量監測,互鎖保護,自帶自動預熔功能、實現膜厚儀自動控制電子槍鍍膜,操作更方便。 電阻蒸發...
光學鍍膜機 光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的工藝試驗儀器,於2012年5月1日啟用。技術指標 膜層控制精度:正負1nm;最大光學元件尺寸:Φ700mm;光譜均勻性:正負1%。主要功能 實現多層光學薄膜的精確製備。
高真空鍍膜機 高真空鍍膜機是一種用於物理學、化學領域的工藝試驗儀器,於2013年01月09日啟用。技術指標 腔體內有八個源用來置放不同的材料,並且一次可以對四個樣品進行蒸鍍,同時配置兩個電流源加熱材料,實際蒸鍍時真空可以達到10-7torr。主要功能 具有有機材料熱蒸發沉積和金屬材料熱蒸發沉積成膜功能。
真空熱蒸鍍膜機 真空熱蒸鍍膜機是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的科學儀器,於2014年12月22日啟用。技術指標 1.真空度可達1x10-10 Torr 2. 裝配3個熱阻蒸發源 3.最大蒸鍍尺寸150mm 4. 12。主要功能 鍍膜。
全自動磁控濺射鍍膜機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2014年10月14日啟用。技術指標 1、真空泵源:分子泵一台(抽速1200升/秒),直聯旋片式真空泵一台(抽速9升/秒),乾式真空泵一台(抽速8升/秒);2、真空閥門:CCQ-200型電磁氣動插板閥一個,高真空電磁氣動隔斷閥3個,壓差閥2個,其他...
磁性濺射卷繞鍍膜機是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2019年12月16日啟用。技術指標 真空室尺寸:ф1800mm 極限真空:2.0×10-3Pa 恢復真空抽氣時間 10min達 6.7×10-2Pa 被鍍材料:布、PET、BOPP、PVC 最大可鍍幅寬:1050mm 最大卷徑:ф400mm 最大鍍膜速度:100m/min 蒸發材料:金屬絲 ...