雙電子束光學鍍膜機

雙電子束光學鍍膜機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2009年9月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙電子束光學鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、材料科學
• 啟用日期：2009年9月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

膜層控制精度：正負1nm；最大光學元件尺寸：Φ360mm；光譜均勻性：正負1%；。

主要功能

採用物理氣相沉積的方法，主要進行多層氧化物薄膜的製備。