真空濺射是2013年公布的機械工程名詞。
基本介紹
- 中文名：真空濺射
- 外文名：vacuum sputtering
- 所屬學科：機械工程
- 公布年度： 2013年
定義,出處,
定義
在真空環境中，惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子(分子)或原子團在基片上成膜的過程。
出處
《機械工程名詞》。
真空濺射
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