真空多功能濺射設備

真空多功能濺射設備是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的計量儀器，於2013年07月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空多功能濺射設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2013年07月22日
• 所屬類別：計量儀器

技術指標

*4、脈寬：

主要功能

主要用於各種金屬，氧化物的納米薄膜的製備和氧化。