多功能高精度磁控濺射儀

多功能高精度磁控濺射儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年7月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：多功能高精度磁控濺射儀
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年7月21日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

離子源：襯底預先清洗輔助沉積；磁控濺射沉積：射頻(RF)，直流(DC)；靜態濺射，共濺射，反應濺射，線上濺射。

主要功能

採用磁控濺射進行鍍膜。