超高真空多靶磁控濺射台

超高真空多靶磁控濺射台是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2004年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空多靶磁控濺射台
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2004年12月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

極限真空：8×10－6Pa，6靶。

主要功能

製備磁性單層膜、多層模。