金屬真空濺射機是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2012年1月2日啟用。
基本介紹
- 中文名:金屬真空濺射機
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2012年1月2日
金屬真空濺射機是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2012年1月2日啟用。
金屬真空濺射機是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2012年1月2日啟用。技術指標IGZO 成膜均勻性 <10%。1主要功能金屬膜成膜。1...
1台;偏壓電源:-200V 1台;控溫電源:0~800℃連續可調 1台;主濺射室可烘烤至150℃。主要功能 超高真空多靶磁控濺射鍍膜機是帶有進樣室的超高真空多功能測控濺射鍍膜設備,可用於在超高真空背景下,充入高純氬氣,採用磁控濺射方式製備各種金屬膜、介質膜、半導體膜,而且又可以較好地濺射鐵磁材料製備磁性薄膜。
超高真空全自動磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月5日啟用。技術指標 1.真空室數量:雙室,包含1個樣片室,1個濺射室。2.極限真空(環境濕度≤55%,經烘烤除氣後):? 樣片室:≤2.0×10-3Pa? 濺射室:≤8.0×10-7Pa3.真空室漏氣率:≤5.0×10-8Pa·L/s4.抽氣速率:...
二次金屬化磁控濺射鍍膜機 二次金屬化磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年8月21日啟用。技術指標 空載極限真空<8*10-5Pa/公轉速度0-20rpm可調。主要功能 大功率脈衝氙燈研製。
1.0×10-9Pa m3/s 3、跑偏量 ±5mm 4、電氣 工作電壓:3相,50Hz,380V±10% 總電器負荷:330KVA 6、冷卻水 工作壓力:0.25~0.35MPa 最大耗量:50m3/h 進水溫度:20oC~25oC。主要功能 採用電阻加熱,只能鍍低熔點的金屬或合金膜,磁控濺射鍍膜機可用於難熔金屬、高溫合金或陶瓷材料的鍍膜。
射頻磁控濺射設備是一種用於能源科學技術領域的儀器,於2015年12月16日啟用。技術指標 圓柱型304不鏽鋼腔室,配有頂蓋與底蓋,名義尺寸約360mm直徑 x 460mm高,配有1個觀察窗,並配有觀察窗擋板,前級泵採用抽速6.8cfm的油潤滑機械泵,主泵採用抽速不小於685 l/s的分子泵,主真空室配有MKS電容式薄膜規,滿...
磁控與粒子束聯合濺射鍍膜機 磁控與粒子束聯合濺射鍍膜機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2005年6月1日啟用。技術指標 10-9帕真空。主要功能 金屬及介質膜的製備。
真空蒸鍍需要使金屬或金屬氧化物蒸發汽化,而加熱的溫度不能太高,否則,金屬氣體沉積在塑膠基材放熱而燒壞塑膠基材。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜,靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。靶材可製作成各種形狀,配合機台的特殊設計做更好...
一、 單室/雙室/多室磁控濺射鍍膜機 該鍍膜機主要用於各種燈飾、家電、锺表、玩具以及美術工藝等行業,在金屬或非金屬(塑膠、玻璃、陶瓷)等 製品鍍制鋁、銅、鉻、鈦、鋯、不鏽鋼等系列裝飾性膜層。技術指標:真空室尺寸:可以根據用戶的要求設計成單室或雙室或多室 極限壓力:8×10-4Pa 恢復真空度時間:...
多靶磁控濺射鍍膜是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2017年09月01日啟用。技術指標 (1)濺射室極限真空度2×10-5帕,系統大氣抽取60分鐘可以達到5×10-4,停機12小時後真空度≤10帕。(2)通過二路MFC質量流量控制器充工作氣體,每路氣體單獨控制。MFC流量範圍:一路200SCCM(V2氬氣)、一路100SCCM...