射頻磁控濺射設備

射頻磁控濺射設備是一種用於能源科學技術領域的儀器，於2015年12月16日啟用。

基本介紹

• 中文名：射頻磁控濺射設備
• 產地：美國
• 學科領域：能源科學技術
• 啟用日期：2015年12月16日

技術指標

圓柱型304不鏽鋼腔室，配有頂蓋與底蓋，名義尺寸約360mm直徑 x 460mm高，配有1個觀察窗，並配有觀察窗擋板，前級泵採用抽速6.8cfm的油潤滑機械泵，主泵採用抽速不小於685 l/s的分子泵，主真空室配有MKS電容式薄膜規，滿量程為100 mTorr，用於濺射鍍膜時檢測工作真空度，真空計精度為度數的+/-0.25%。

主要功能

用於製備金屬薄膜、半導體薄膜、絕緣薄膜等。適用於各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量製備。