《磁控濺射設備通用技術條件》是1994年10月01日實施的一項行業標準。
基本介紹
- 中文名:磁控濺射設備通用技術條件
- 標準號:SJ/T 10478-1994
- 制修訂:制定
- 發布日期:1994-04-11
- 批准發布部門:電子工業部
- 實施日期:1994-10-01
備案信息
備案號:0062-1994。
《磁控濺射設備通用技術條件》是1994年10月01日實施的一項行業標準。
《磁控濺射設備通用技術條件》是1994年10月01日實施的一項行業標準。備案信息備案號:0062-1994。...
磁控濺射設備通用技術條件 《磁控濺射設備通用技術條件》是1994年10月01日實施的一項行業標準。備案信息 備案號:0062-1994。
5211偏壓濺射鍍膜 53真空濺射鍍膜設備 531間歇式真空濺射鍍膜機 532半連續磁控濺射鍍膜機 533大面積連續式磁控濺射鍍膜設備 參考文獻 第6章真空離子鍍膜 61真空離子鍍膜及其分類 62離子鍍膜原理及其成膜條件 63離子鍍膜過程中電漿的作用及到達基體入射的粒子能量 64離子轟擊在...