超高發射掃描顯微鏡是一種用於數學領域的分析儀器，於2016年9月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高發射掃描顯微鏡
- 產地：日本
- 學科領域：數學
- 啟用日期：2016年9月1日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
辨率：1.0nm (15 kV)； 1.4nm(1 kV, WD = 1.5mm, 減速模式)；2.0nm（1 kV, WD = 1.5mm, 普通模式） 放大倍數：30倍-800,000倍 ； 電子槍：冷陰極場發射電子源 ; 加速電壓:0.5-30kV（0.1KV/步，可變，普通模式） 樣品台： X: 0-50mm Y: 0-50mm, Z:1.5-30mm, T: -5-70°,R:360°, 樣品尺寸最大直徑：100mm（標準） 信號選擇：二次電子模式和背散射模式，X射線信號，輔助信號。
主要功能
SU8010擁有卓越的高分辨性能、先進的探測技術和友好的用戶界面，使它能夠精確和清楚地捕捉最短暫的瞬間。 採用了新型ExB式探測器和電子束減速功能，提高了圖像質量，尤其是將低加速電壓下的圖像質量提高到了新的水平；新型透鏡系統，提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式，使以往無法實現的工作得以輕鬆成,同時配備有高性能的HORIBA EX-350，可同時進行微區、亞微區成分定性和定量以及元素分布分析。
