掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年7月14日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描型電子顯微鏡
- 產地:荷蘭
- 學科領域:生物學
- 啟用日期:2017年7月14日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年7月14日啟用。
掃描電子顯微鏡(SEM) 是一種介於透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段。其利用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品, 通過光束與物質間的相互作用, 來激發各種物理信息, 對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的...
掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年7月14日啟用。技術指標 第四代 Phenom Pro 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高解析度台式掃描電鏡。觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構,放大倍數要求可達130,000 倍。基於新一代高...
全自動擴散泵DP。主要功能 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統合於一體。結構緊湊的EDS由顯微鏡主體系統的電腦控制,操作員只用一隻滑鼠,就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。
掃描式電子顯微鏡系統 掃描式電子顯微鏡系統是一種用於物理學、化學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2011年3月10日啟用。技術指標 放大倍數30-300000,解析度3nm。主要功能 對材料進行微觀形貌分析。
台式掃描式電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年06月15日啟用。技術指標 1.放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,光學放大 20-135倍 電子放大 130,000倍(非數字放大) *2.背散射電子探測器解析度: 優於14nm *3.加速...
分析型掃描電子顯微鏡 分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年09月10日啟用。技術指標 放大倍數:5倍~30萬倍。主要功能 觀測樣品的表面、切面、斷面結構。
掃描式測試電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2017年1月17日啟用。技術指標 放大倍率:25~19000(LEI模態) 100~65000(SEI模態) ,可觀測範圍:x:0~70mm; y:0~50mm z::1.5~25mm。主要功能 1) EDX/Material ...
環境掃描式電子顯微鏡是一種用於物理學、地球科學、材料科學領域的分析儀器,於2003年01月15日啟用。技術指標 解析度:3.5nm(30kv,高真空模式);放大倍率:5~200000倍 加速電壓:30KV 樣品最大尺寸:X=50mm,Y=50mm,Z=50mm ...
JEOL掃描式電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2018年7月13日啟用。技術指標 高真空解析度 3.0nm in SEI (二次電子圖像)|JSM-IT300 解析度高真空模式 3.0 nm (30 kV) 8.0nm(3.0 kV) 15.0 nm(1.0 kV) ...
台式掃描電子顯微鏡(Desktop Scanning Electron Microscope)是一種體積小巧,可安放在實驗檯面上操作的電子顯微鏡。其原理和傳統(落地式)掃描電子顯微鏡相同。部件包括:電子發射、電磁透鏡、信號探測、真空系統、計算機控制系統。簡介 台式...
桌上型掃描電子顯微鏡是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器,於2010年01月02日啟用。技術指標 1、放大倍率20~30000倍;2、加速電壓:1~30kV3、樣品直徑最大可達75mm,高度10~15mm。主要功能 1、固體表面微觀結構;2、進行檢材表面...
多功能掃描式電子顯微鏡 多功能掃描式電子顯微鏡是一種用於農學、林學、材料科學領域的分析儀器,於2012年12月07日啟用。技術指標 1.加速電壓:200V~30kV;2.放大倍數:6~100萬倍,誤差 主要功能 放大倍數;解析度。
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空):...
高真空分析型掃描電子顯微鏡 高真空分析型掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2012年10月31日啟用。技術指標 電鏡解析度3.5nm;能譜解析度139ev。主要功能 二次電子像,背散射像,成分分析。
場發射掃描式電子顯微鏡 場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於能源科學技術領域的分析儀器,於2009年6月1日啟用。技術指標 加速電壓:200V~30KV。主要功能 固體物質表面形貌與成分分析。
掃描電子顯微鏡系統是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年10月26日啟用。技術指標 解析度:3.0nm@30KV(SE and W),4.0nm@30KV(VP with BSD)。主要功能 觀察掃描各種金屬材料及產品的顯微形貌,可進行失效分析,能譜...
掃描電子顯微鏡法(scanning electron microscopy)是2015年公布的計量學名詞。定義 用聚焦的電子束轟擊樣品,以獲取次級電子、背散射電子、透射電子、樣品電流、束感生電流、特徵 X 射線、俄歇電子以及不同能量的光子的信號,採用其成像電子...
JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於生物學、物理學、化學、基礎醫學領域的分析儀器,於2019年7月6日啟用。技術指標 電子光學系統 二次電子解析度 3.0nm@30kV;8.0nm@3kV;15nm@1kV(鎢燈絲) 2.0nm@30kV;6.0nm@3kV;9nm@1kV(六硼化...
還可分析生物樣品和非導電樣品(背散射和二次電子像)、分析液體樣品以及土20°C內的固液相變過程觀察。簡要介紹 ESEM是環境掃描電子顯微鏡(EnvironmentalScanningElectronMicroscope)的英文縮寫。由於在它物鏡的下極靴處裝有一壓差光闌(...
日立掃描電子顯微鏡是一種用於化學、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年5月7日啟用。技術指標 加速電壓-15kV;放大倍數-15x to 60,000x。主要功能 日立台式電鏡TM3030標配4分割背散射探測器,可採集來自四個不同方向的圖像信息,可以有...
掃描電子顯微鏡分析方法通則 《掃描電子顯微鏡分析方法通則》是2020年12月1日實施的一項行業標準。備案信息 備案號:78236-2020 備案月報: 2020年第11號(總第247號)
筆者以德國蔡司ULTRA PLUS掃描電子顯微鏡為例,從環境條件、光學系統、真空系統及附屬檔案設施4個方面總結了熱場發射掃描電子顯微鏡運行狀態的幾種檢查方法和維護保養經驗,並結合故障實例進行了分析 [1] 。
掃描式電子顯微鏡及運費是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2011年5月31日啟用。技術指標 解析度:3.0nm(30kV);2.0nm(30kV);4.5nm(30kV)加速電壓:0.2-30kV放大倍數:5-1,000,000X射線...
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10....
高分辨場發射掃描式電子顯微鏡 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年5月2日啟用。技術指標 放大倍率:14~1000000倍。主要功能 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡。
高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2018年11月07日啟用。技術指標 1.低加速電壓成像能力,1kv解析度可達1.3nm 2.不需噴鍍,可以直接觀測不導電樣品 3. 配置Lower、Upper和Top...
於2012年12月3日啟用。技術指標 電壓1KV-30KV,樣品高度不能超過3.5cm,長寬不超過5cm.。主要功能 由於掃描電子顯微鏡可用多種物理信號對樣品進行綜合分析,並具有可以直接觀察較大試樣、放大倍數範圍寬和景深大等特點。
計算機控制掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、化學工程領域的分析儀器,於2014年10月31日啟用。技術指標 二次電子解析度不差於3.0nm @30kV、8.0nm @3kV和 15nm (1kV)背散射電子分0.3-30kV;放大倍數範圍:5X-300,000X。樣...
掃描式電子顯微鏡/掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 XY方向解析度為0.2nm,Z方向為0.01nm,最大掃描範圍150*150um。主要功能 利用針尖與樣品表面原子間的微弱作用來作為反饋信號,維持針尖與...
掃描電子顯微鏡的製造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時,也可...