分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年09月10日啟用。
基本介紹
- 中文名:分析型掃描電子顯微鏡
- 產地:日本
- 學科領域:電子與通信技術
- 啟用日期:2012年09月10日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年09月10日啟用。
分析型掃描電子顯微鏡 分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2012年09月10日啟用。技術指標 放大倍數:5倍~30萬倍。主要功能 觀測樣品的表面、切面、斷面結構。
分析掃描電子顯微鏡 分析掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年9月17日啟用。技術指標 加速電壓:5~30KV;樣品大小:80mm;解析度:5nm。主要功能 用於觀察樣品表層結構。
分析電子顯微鏡是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。analytical electron microscope;AEM 是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有:可獲得透射電子圖像、掃描...
JEOL掃描式電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2018年7月13日啟用。技術指標 高真空解析度 3.0nm in SEI (二次電子圖像)|JSM-IT300 解析度高真空模式 3.0 nm (30 kV) 8.0nm(3.0 kV) 15.0 nm(1.0 kV) ...
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空):...
數位化掃描電子顯微鏡 數位化掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2008年11月13日啟用。技術指標 解析度4.5nm,放大倍數5-250000倍。主要功能 對材料進行顯微形貌觀測,對微區元素進行分析。
日本JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於安全科學技術領域的分析儀器,於2007年11月13日啟用。技術指標 放大倍數5-10萬倍;三級物鏡光欄;高低真空切換;加速電壓0.5→30KV。主要功能 金屬材料,納米材料,微觀形貌分析及微區成份分析。
透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用於物質成分分析;發射式電子顯微鏡用於自發射電子表面的研究。...
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
多功能掃描式電子顯微鏡 多功能掃描式電子顯微鏡是一種用於農學、林學、材料科學領域的分析儀器,於2012年12月07日啟用。技術指標 1.加速電壓:200V~30kV;2.放大倍數:6~100萬倍,誤差 主要功能 放大倍數;解析度。
掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子...
掃描電子顯微鏡分析方法通則 《掃描電子顯微鏡分析方法通則》是2020年12月1日實施的一項行業標準。備案信息 備案號:78236-2020 備案月報: 2020年第11號(總第247號)
掃描電子顯微鏡[學]掃描電子顯微鏡[學](scanning electron microscopy,sem,scanning electron microscopy,sem)是1993年公布的電子學名詞。公布時間 1993年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《電子學名詞》
高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2018年11月07日啟用。技術指標 1.低加速電壓成像能力,1kv解析度可達1.3nm 2.不需噴鍍,可以直接觀測不導電樣品 3. 配置Lower、Upper和Top...
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;...
掃描發射電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2007年9月28日啟用。技術指標 解析度二次電子(SE)成像:高真空模式:30kV時 1.2 nm;1kV時 3.0nm 低真空模式:30kV時 1.5 nm;3kV時 3.0nm ESEM?環境真空模式: 30kV時...
1.2.4 冷凍掃描電鏡(Cryo-SEM)1.2.5 掃描透電鏡(STEM)1.3 掃描電鏡的發展趨勢 第2章 掃描電鏡的原理、結構及套用技術 2.1 基礎知識 2.1.1 解析度 2.1.2 放大倍率 2.1.3 像差 2.1.4 電子束斑 2.2...
掃描電子顯微鏡法(scanning electron microscopy)是2015年公布的計量學名詞。定義 用聚焦的電子束轟擊樣品,以獲取次級電子、背散射電子、透射電子、樣品電流、束感生電流、特徵 X 射線、俄歇電子以及不同能量的光子的信號,採用其成像電子...
台式掃描式電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年06月15日啟用。技術指標 1.放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,光學放大 20-135倍 電子放大 130,000倍(非數字放大) *2.背散射電子探測器解析度: 優於14nm *3.加速...
桌面掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年7月4日啟用。技術指標 1)、電子槍:六硼化鑭燈絲,燈絲壽命≥1000小時; 2)、放大倍數:30-100000倍;可數位放大:2倍、4倍; 3)、電子束電流:30pA-1nA,加速電壓...
日立掃描電子顯微鏡是一種用於化學、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年5月7日啟用。技術指標 加速電壓-15kV;放大倍數-15x to 60,000x。主要功能 日立台式電鏡TM3030標配4分割背散射探測器,可採集來自四個不同方向的圖像信息,可以有...
雙束掃描電子顯微鏡是一種用於數學領域的分析儀器,於2017年5月1日啟用。技術指標 1. Elstar 電子槍:Schottky 熱量場發射器。3. 配備Pt氣體沉積源。4. 掃描電子顯微成像配備多種探頭,適用於不同的樣品和工作模式:ETD和TLD,ICD,...
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器,於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD );加速電壓:0.2-...
超高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月22日啟用。技術指標 15 KV:解析度0.8nm(工作距離4nm), 1 KV: 1.1 nm (減速模式),5軸馬達自動驅動。主要功能 表面形貌分析和測量,端面膜厚...
電子顯微鏡SEM是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年6月15日啟用。技術指標 1 解析度 :高真空:二次電子 3.0nm(30kV),8.0nm(3kV) 背散射電子 3.5nm(30kV) 低真空:背散射電子 3.5nm(30kV)2放大倍數: 6x~1,000,...
台式電子掃描顯微鏡 台式電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月20日啟用。技術指標 放大30000倍。主要功能 材料分析。