台式電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月20日啟用。
基本介紹
- 中文名:台式電子掃描顯微鏡
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2013年12月20日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
台式電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月20日啟用。
台式電子掃描顯微鏡 台式電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月20日啟用。技術指標 放大30000倍。主要功能 材料分析。
台式掃描顯微鏡是一種用於生物學、農學、林學領域的分析儀器,於2014年12月31日啟用。技術指標 *2.1放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,電子放大 80-100,000倍 *2.2背散射電子探測器解析度: 優於17nm 2.3加速電壓: 5kV—10kV連續可調 *2.4單根燈絲壽命:大於1500h; 2.5電子艙真空封鎖技術,每次換...
掃描電子顯微鏡是一種大型分析儀器,它廣泛套用於觀察各種固態物質的表面超微結構的形態和組成。所謂掃描是指在圖象上從左到右、從上到下依次對圖象象元掃掠的工作過程。它與電視一樣是由控制電子束偏轉的電子系統來完成的,只是在結構和部件上稍有差異而已。在電子掃描中,把電子束從左到右方向的掃描運動叫做行掃描...
台式掃描電子顯微鏡能譜一體機是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2017年6月27日啟用。技術指標 1.總體要求:設備在滿足解析度的前提下,成像快速,放置環境要求低,可隨意搬動,維護周期長 2.儀器形態:小型、桌面,可移動,要求具有防震設計,可擺放於普通實驗室桌面使用,要求儀器主機體積不超過 300...
超景深台式電子顯微鏡是一種用於考古學領域的分析儀器,於2014年3月4日啟用。技術指標 台式電子顯微鏡,可實現樣品超景深實時觀察,放大20倍-30000倍。背散射電子探測器。解析度優於25nm。加速電壓:5kV,15kV,能譜模式三種可調。能譜能量解析度<137KeV(Mn Kα),可較精確測C元素。主要功能 可操作性:操作簡單...
桌上型掃描電子顯微鏡 桌上型掃描電子顯微鏡是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器,於2010年01月02日啟用。技術指標 1、放大倍率20~30000倍;2、加速電壓:1~30kV3、樣品直徑最大可達75mm,高度10~15mm。主要功能 1、固體表面微觀結構;2、進行檢材表面元素的成分分析。
台式透射式電子顯微鏡 台式透射式電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2018年05月02日啟用。技術指標 SEM (BSE detector) resolving power 2 nm TEM resolving power 2.5 nm。主要功能 TEM, ED, STEM, SEM。
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10.0nm;背散射電子(BSE)像解析度(VPwithBSD),30kV時優於4.0nm。2、放大...
鎢燈掃描電子顯微鏡是一種用於基礎醫學、臨床醫學、預防醫學與公共衛生學領域的分析儀器,於2010年11月01日啟用。技術指標 1、 台式設計,節約能源:使用時只需連線上電源插頭,不需要冷卻循環水,只需放在桌面操作。 2、 像使用數位相機一樣的感覺,操作簡單,即開即用,開機無須等待即可使用;。主要功能 圖像分析...
掃描電子顯微鏡和能譜分析儀是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年11月7日啟用。技術指標 1. 二次電子解析度:3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式);7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式); 2. 放大倍率:5-10000; 3. 最大樣品尺寸:最大樣品...
飛納台式掃描電鏡系統 飛納台式掃描電鏡系統是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器,於2016年10月9日啟用。技術指標 1、二次電子圖像:1.0nm (15kV), 1.5nm (1kV)#11;2、分析模式解析度:3.0nm(15kV, 5nA,WD=8mm)。主要功能 形貌檢測。
JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於生物學、物理學、化學、基礎醫學領域的分析儀器,於2019年7月6日啟用。技術指標 電子光學系統 二次電子解析度 3.0nm@30kV;8.0nm@3kV;15nm@1kV(鎢燈絲) 2.0nm@30kV;6.0nm@3kV;9nm@1kV(六硼化鑭) 背散射電子解析度 4.0nm @ 30kV低真空 發射源 預對中,具有自動加熱、...
掃描電子顯微鏡 EVO 18是一種用於地球科學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的顯微鏡及圖象分析儀器,於2012年1月4日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD ) 加速電壓:0.2-30KV 放大倍數:5-1000000 x 探針電流:0.5PA-5μA X-射線分析工作距離:8...
掃描式測試電子顯微鏡 掃描式測試電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2017年1月17日啟用。技術指標 放大倍率:25~19000(LEI模態) 100~65000(SEI模態) ,可觀測範圍:x:0~70mm; y:0~50mm z::1.5~25mm。主要功能 (1)EDX/Material analysis (2)Cross Section。
台式透射電子顯微鏡 台式透射電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2015年03月03日啟用。技術指標 放大倍數200000×,加速電壓15KV。主要功能 對樣品的表面形貌觀察。
掃描電子顯微鏡EVO LS 10 掃描電子顯微鏡EVO LS 10是一種用於生物學學科領域的顯微鏡及圖象分析儀器,於2016年10月19日啟用。分析項目 樣品表面形貌掃描。分析標準 遺傳-雷射掃描共聚焦顯微鏡樣品的標準。
掃描式電子顯微鏡/掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 XY方向解析度為0.2nm,Z方向為0.01nm,最大掃描範圍150*150um。主要功能 利用針尖與樣品表面原子間的微弱作用來作為反饋信號,維持針尖與樣品間的作用力恆定,同時針尖在樣品表面掃描,從而得知樣品表面高低起伏。
掃描電子式顯微鏡 掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
掃描式電子顯微鏡系統 掃描式電子顯微鏡系統是一種用於物理學、化學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2011年3月10日啟用。技術指標 放大倍數30-300000,解析度3nm。主要功能 對材料進行微觀形貌分析。
JEOL掃描式電子顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2018年7月13日啟用。技術指標 高真空解析度 3.0nm in SEI (二次電子圖像)|JSM-IT300 解析度高真空模式 3.0 nm (30 kV) 8.0nm(3.0 kV) 15.0 nm(1.0 kV) 解析度低真空模式 4.0 nm (30 kV BED) 放大倍率5 ~ 300,000 倍。主要...
台式電子顯微鏡能譜儀 台式電子顯微鏡能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年6月28日啟用。技術指標 光學放大 20-100倍;電子放大120,000倍;解析度: 優於18 nm; 5kV-15kV連續可調。主要功能 用於對各種樣品進行高分辨形貌觀察及表面元素成分點、線、面分析。測試樣品亞微米 、納米尺寸的高分辨圖像。
電子束通過樣品後由物鏡成像於中間鏡上,再通過中間鏡和投影鏡逐級放大,成像於螢光屏或照相干版上。中間鏡主要通過對勵磁電流的調節,放大倍數可從幾十倍連續地變化到幾十萬倍;改變中間鏡的焦距,即可在同一樣品的微小部位上得到電子顯微像和電子衍射圖像。掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡的電子束不穿過樣品,僅以電子...
主要用途: Quanta 200 FEG場發射環境掃描電子顯微鏡綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢 儀器類別 0304070202 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /台式掃描電子顯微鏡 指標信息 1、場發射環境掃描電子顯微鏡解析度:二次電子像高真空模式:30KV時 附屬檔案信息 冷卻樣品台 0到10℃時,...
掃描電子顯微鏡系統 掃描電子顯微鏡系統是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年10月26日啟用。技術指標 解析度:3.0nm@30KV(SE and W),4.0nm@30KV(VP with BSD)。主要功能 觀察掃描各種金屬材料及產品的顯微形貌,可進行失效分析,能譜分析。
計算機控制掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、化學工程領域的分析儀器,於2014年10月31日啟用。技術指標 二次電子解析度不差於3.0nm @30kV、8.0nm @3kV和 15nm (1kV)背散射電子分0.3-30kV;放大倍數範圍:5X-300,000X。樣品室內最高真空度:優於3x10-4Pa,低真空壓力範圍:10Pa到270Pa。圖像掃描:...
掃描電子顯微電鏡是一種用於化學學科領域的電子光學儀器,於2016年3月15日啟用。技術指標 解析度:二次電子(SE)像 15 kV時優於1.0 nm;1 kV時優於1.4 nm(非減速模式) 背散射(BSE)像: 1 kV時優於3.5 nm;15 kV時優於2.0 nm 放大倍率範圍:1 ~ 1,000,000倍。主要功能 材料的微觀組織觀察...
超高分辨掃描電子顯微鏡 超高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月22日啟用。技術指標 15 KV:解析度0.8nm(工作距離4nm),1 KV: 1.1 nm(減速模式),5軸馬達自動驅動。主要功能 表面形貌分析和測量,端面膜厚測量,圖形測量。
掃描電子顯微鏡及能譜儀 掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀分析。
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;放大倍率:×20 ~ ×800,000;可觀察二次電子像和背散射電子像。能譜儀部分:...