高低真空掃描分析電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器，於2005年8月15日啟用。
高低真空掃描分析電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器，於2005年8月15日啟用。技術指標 高真空解析度：3.0nm in SEI、4.0nm in BEI；低真空解析度：4.0nm in BEI；放大倍數：x8-x300000；加速電壓：0.5~30kV；放大...
掃描電子顯微鏡（SEM）是一種介於透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段。其利用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品，通過光束與物質間的相互作用，來激發各種物理信息，對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器，於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度：3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD )；加速電壓：0.2-...
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器，於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數：1、解析度：二次電子（SE）像解析度在高真空時：30kV時優於3.0nm，3kV時優於10....
ESEM是環境掃描電子顯微鏡(EnvironmentalScanningElectronMicroscope)的英文縮寫。由於在它物鏡的下極靴處裝有一壓差光闌(pressurelimitedaperture),使得在保證電子槍區高真空的同時,允許樣品室內有氣體流動,最高達50Torr,一般1Torr～20Torr,因此,...
透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構；掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌，也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合，構成電子微探針，用於物質成分分析；發射式電子顯微鏡用於自發射電子表面的研究。...
鎢絲燈掃描式電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年5月20日啟用。技術指標 高真空（SE）： 3 nm @ 30 kV / 2 nm @ 30 kV 8 nm @ 3 kV / 5 nm @ 3 kV 低真空模式（LVSTD，BSE）： 3.5 nm @ 30 ...
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器，於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸：Φ32 mm×10 mm，加速電壓：0.5 kV to 30 kV，二次電子圖像解析度： 3.0 nm，放大...
可變真空掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2011年4月20日啟用。技術指標 1、解析度：二次電子探測器3.0nm（30kV），15.0nm（1kV），背散射電子探測器4.0nm（30kV）2、放大倍數5~300000倍，自動修正放大；3...
攜帶型電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2019年7月16日啟用。技術指標 二次電子解析度：≤4.0nm@20kV，15nm@1kV；背散射電子解析度：≤5.0nm@20kV（低真空）；放大倍數：6~300000倍；五軸馬達台；X射線能譜儀。
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器，於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體：倍率：15～100000，觀察範圍：9(H)×7(V)mm～1.3(H)×1(V)mm，解析度：8nm，觀察兩次電子圖像和反射電子...
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器，於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是：0.3~20 kV連續可調； 2.二次電子解析度是：4.0 nm@20 kV，15 nm@1 kV背散射電子解析度優於：5.0 nm@20 kV（低真空）:...
環境掃描式電子顯微鏡是一種用於物理學、地球科學、材料科學領域的分析儀器，於2003年01月15日啟用。技術指標 解析度：3.5nm(30kv，高真空模式)；放大倍率：5～200000倍 加速電壓：30KV 樣品最大尺寸：X=50mm，Y=50mm，Z=50mm ...
掃描電子顯微鏡與能譜聯用，最大放大倍數300000，高真空與低真空作業系統。主要功能 掃描電鏡（SEM）是介於透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀性貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。掃描電鏡的優點是，①有較高的...
超高真空低溫掃描探針顯微鏡系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2016年12月28日啟用。技術指標 1、系統掃描範圍:5微米 *5微米（室溫）、2微米 * 2微米（77 K）、1微米*1微米(4 K)； 2、STM成像空間解析度：＜1 ？（橫向）...
高溫高壓原位掃描電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器，於2019年11月6日啟用。技術指標 解析度： 高真空模式優於1.5nm(30kV),4nm(1kV) 低真空模式優於1.8nm(15kV)。主要功能 該儀器包含場發射掃描電鏡主機，以及離子濺射儀和...
是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有：可獲得透射電子圖像、掃描透射電子圖像、二次電子圖像、背散射電子圖像和X射線圖像，可用X射線能譜和電子能譜進行微-微區成分分析，用多種衍射技術...
高真空型掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年11月21日啟用。技術指標 該系統由分子束外延（MBE）樣品製備室，表面分析室和低溫STM室三個超高真空（5.0′10-11 mbar）腔體組成 MBE樣品製備室：裝備有三個電子束...
掃描電子顯微鏡-2014重點實驗室是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器，於2016年3月4日啟用。技術指標 解析度：高真空二次電子像＜3.0nm（30kV）； 低真空背散射電子像＜4.0nm（30kV）。 。主要功能 本系統適用於測量交流或...
超高真空低溫掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器，於2017年4月28日啟用。技術指標 真空：1×10-10 mbar。最低工作溫度：5 K。溫度穩定性：10 mK。可變溫度範圍：5K-300K。液氦消耗量：小於0.1L/小時 (5K)。掃描範圍：1 ...
x 10-10mB，快進樣室1.0 x 10-8mB，樣品生長分。主要功能 主要用於納米尺度時間空間高分辨研究：利用掃描隧道顯微鏡與光學，磁學技術融合，研究納米尺度物質表面結構，電子輸運，針尖誘導發光，納米體系動力學性質以及與自旋相關性質等。
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一，具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--...
掃描電子顯微鏡+粒子濺射儀是一種用於物理學、材料科學學科領域的電子光學儀器，於2015年11月25日啟用。技術指標 二次電子解析度：3.0nm（高真空，30kV） 背散射電子解析度：4.0nm（低真空，30kV） EDS能量解析度：125 eV(Mn K)...
掃描式測試電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2017年1月17日啟用。技術指標 放大倍率:25~19000(LEI模態) 100~65000(SEI模態) ,可觀測範圍:x:0~70mm; y:0~50mm z::1.5~25mm。主要功能 （1）EDX/Material ...
場發射環境掃描電子顯微鏡是一種用於表面形貌分析的設備。套用 可對各種各樣的樣品進行靜態和動態觀察和分析，在一定壓力的水蒸氣條件下進行各種物質的表面形貌分析和微區成分分析，避免樣品在真空條件下發生失水而發生表面形貌的變化，特別對...
分析型掃描電子顯微鏡 分析型掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2012年09月10日啟用。技術指標 放大倍數：5倍~30萬倍。主要功能 觀測樣品的表面、切面、斷面結構。
AFM接觸模式下可實現雲母和Au（1 1 1）表面的原子分辨；AFM非接觸模式下可實現Si（1 1 1）表面的原子分辨。能經受不低於420K 烘烤。極限真空160mm.。主要功能 固體表面的微觀形貌測定、部分樣品的表面電子結構、掃描隧道譜測量。
