超高分辨場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學領域的分析儀器，於2014年9月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高分辨場發射掃描電子顯微鏡
- 產地：日本
- 學科領域：能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學
- 啟用日期：2014年9月1日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
次電子圖像分率：1.0 nm(加速電壓 15 kV, WD=4 mm) 1.3 nm(著陸電壓 1 kV, WD=1.5 mm) 放大倍率：低倍率模式20-2,000×(照像倍率)80-5,000×(顯示倍率) 高倍率模式 100-800,000×(照像倍率) 80-800,000×(照像 倍挨鞏祝率) 400-2,000,000×(顯示倍率) 300-2,000,000×(顯示倍率) 電子槍：冷場發射源 加地犁速電壓：0.5 kV - 30 kV(標準模頸抹訂翻式) 著陸電壓：0.1 kV to 2.0 kV(減求朵仔速模式) 物鏡光闌夜舟煉凶：物鏡光闌(加熱型), 4孔可慨立囑選，在真空系統外切換。
主要功能
用於觀察納米材備符槳料精細表面結構。
