高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統

高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統
• 產地：荷蘭
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2018年12月21日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器

技術指標

二次電子解析度≤夜舟您棕0.6nm(15kV);二次電全膠騙子解析度≤地犁0.9nm（1kV）。

主要功能

圖像解析度設挨禁高放夜請府戰大挨鞏祝倍率大、對樣品沒有損傷、試樣製備捆戲歸簡單、景深大。