高分辨冷場發射掃描電子顯微鏡是一種用於藥學領域的分析儀器，於2013年11月27日啟用。
高分辨冷場發射掃描電子顯微鏡是一種用於藥學領域的分析儀器，於2013年11月27日啟用。技術指標 解析度 、放大倍數 、加速電壓、傾斜角。主要功能 具備超高分辨掃描圖像觀察能力，尤其是採用最新數位化圖像處理技術，提供高倍數、高分辨掃描...
超高分辨場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學領域的分析儀器，於2014年9月1日啟用。技術指標 次電子圖像分率：1.0 nm(加速電壓 15 kV, WD=4 mm) 1.3 nm(著陸電壓 1 kV, WD=1.5 mm) ...
高分辨場發射掃描式電子顯微鏡 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2012年5月2日啟用。技術指標 放大倍率：14~1000000倍。主要功能 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡。
高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月21日啟用。技術指標 二次電子分辨率≤0.6nm(15kV);二次電子分辨率≤0.9nm（1kV）。主要功能 圖像解析度高放大倍率大、對樣品沒有損傷、試樣製備簡單、...
高分辨場發射電子顯微鏡 高分辨場發射電子顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器，於2014年10月1日啟用。技術指標 解析度1.0nm（15kV,4mm）。主要功能 形貌觀察。
冷場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2011年5月1日啟用。技術指標 解析度：1.0nm (15KV), 1.4 nm (1KV) 放大倍數：25-100萬倍加速電壓：0.1KV-30KV 束流強度：10-13-2x10-9。主要附屬檔案：牛津儀器INCA ...
高分辨率肖特基場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年11月26日啟用。技術指標 1、 電子光學工作模式有：解析度、景深、視野、大視野、搖擺電子束 2、 高真空下的解析度（二次電子）：30kV下1.2nm,3kV下2.5...
筆者以德國蔡司ULTRA PLUS掃描電子顯微鏡為例,從環境條件、光學系統、真空系統及附屬檔案設施4個方面總結了熱場發射掃描電子顯微鏡運行狀態的幾種檢查方法和維護保養經驗,並結合故障實例進行了分析 [1] 。
超高分辨率掃描電子顯微鏡是專門為現今技術研究和發展設計的超高分辨率儀器。目錄 1 產品介紹 2 產品特點 產品介紹 冷場發射掃描電子顯微鏡m213451是專門為現今技術研究和發展設計的超高分辨率儀器 [1] 。獨特之處在於使用複合檢測器允許同...
場發射高分辨電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2005年8月6日啟用。技術指標 性能指標：點解析度0.19 nm，線解析度0.14 nm，EELS能量譜解析度0.7 eV，EDS能量解析度136 eV。主要功能 固體材料結構和成分分析。
高分辨場發射透射電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2012年11月2日啟用。技術指標 場發射電子槍，加速電壓：20-200kV連續調節，放大倍數：25-1,000,000，點解析度：0.24nm；線解析度：0.102nm，信息解析度...
場發射電子掃描顯微鏡 場發射電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2006年11月13日啟用。技術指標 冷場高分辨，帶EDS。主要功能 形貌分析，元素分析。
主要用途: Quanta 200 FEG場發射環境掃描電子顯微鏡綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢中文名 場發射環境掃描電子顯微鏡 主要用途 Quanta 200 儀器類別 台式掃描電子顯微鏡 指標信息 場發射環境掃描電子顯微鏡...
高分辨熱場發射掃描電子顯微鏡 高分辨熱場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2015年9月11日啟用。技術指標 15kV解析度0.6nm，1kV解析度1.6nm。主要功能 測試樣品表面形貌及微區成分。
場發射超高分辨透射電子顯微鏡是一種用於生物學、化學、物理學、農學領域的分析儀器，於2017年6月21日啟用。技術指標 加速電壓200 kV；TEM晶格解析度~0.1 nm；STEM解析度~0.16 nm；SEI解析度~0.5 nm；放大倍率：TEM：500x~2Mx；...
冷場場發射掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器，於2017年3月22日啟用。技術指標 解析度 1.0nm @ 15kV,能譜解析度133eV(Mn Ka),分析元素B（5）-- U（92）。主要功能 本儀器具有高的解析度，...
冷凍場發射掃描電子顯微鏡是一種用於化學、生物學、材料科學領域的分析儀器，於2018年12月20日啟用。技術指標 1.解析度： ≤0.6 nm@15 keV （二次電子），≤1.1 nm@1 keV，≤1.2 nm@500 eV（二次電子，無需減速模式）； 2...
熱場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月20日啟用。技術指標 1.具有高分辨能力的半浸沒式物鏡（Semi-in-lens） 半浸沒式物鏡能將電子束收縮的很細，即使在低加速電壓下也能實現高分辨。 2.採用GENTLE...
電子束表面分析儀是一種用於數學領域的物理性能測試儀器，於2016年12月1日啟用。技術指標 SE解析度 15kV：0.8nm (工作距離≥3mm)1kV：1.1nm（工作距離≥1.2mm，減速模式）。主要功能 冷場發射高分辨掃描電子顯微鏡配備新型場發射電子...
場發射掃描電子顯微鏡SU8220是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年11月13日啟用。技術指標 二次電子分辨率：15KV時優於0.8nm；1KV時優於1.1nm；電子槍真空：優於2*10-8；電子束流條件範圍：5pA~10nA。主要功能 冷場發射...
儀器類別： 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息： 二次電子成像，背散射成像，陰極螢光成像；解析度：高真空：30KV時，為1.5nm； 1KV時，為3nm； X射線能譜分析：元素分析範圍B－U...
