場發射掃描電子顯微鏡SU8220

場發射掃描電子顯微鏡SU8220

場發射掃描電子顯微鏡SU8220是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年11月13日啟用。

基本介紹

  • 中文名:場發射掃描電子顯微鏡SU8220
  • 產地:日本
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2014年11月13日
  • 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器
技術指標,主要功能,

技術指標

二次電子解析度:15KV時優於0.8nm;1KV時優於1.1nm;電子槍真空:優於2*10-8;電子束流條件範圍:5pA~10nA。

主要功能

冷場發射電子槍具有更高的相干度、更高亮度、更小束斑等,因此成像質量更好。低加速電壓下也具有較高的解析度,這樣可以減少電子束轟擊對樣品的損傷,以及減少觀察不導電樣品時的荷電現象,可以在低加速電壓下獲得較高襯度的背散射信號。有利於分析多相納米材料,介孔材料等。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們