納米沉積系統是一種用於數學領域的物理性能測試儀器,於2003年11月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:納米沉積系統
- 產地:英國
- 學科領域:數學
- 啟用日期:2003年11月1日
- 所屬類別:物理性能測試儀器 > 力學性能測試儀器
納米沉積系統是一種用於數學領域的物理性能測試儀器,於2003年11月1日啟用。
納米沉積系統是一種用於數學領域的物理性能測試儀器,於2003年11月1日啟用。技術指標1KWDC,加熱800度。1主要功能納米沉積系統。1...
納米材料沉積系統是一種用於化學工程、材料科學領域的分析儀器,於2016年3月7日啟用。技術指標 軟體控制的運動平台XY定位;Z軸控制列印頭高度; 兩軸同步列印或點對點列印;柵格與矢量列印模式。主要功能 研究微量點滴、微量噴射以及微流體所...
納米粒子沉積系統是一種用於機械工程領域的儀器,於2017年7月6日啟用。技術指標 產生室極限真空度6.6×10^-5Pa,本底真空度6.6×10^-4Pa;過濾室極限真空度6.6×10^-4Pa,本底真空度1.0×10^-3Pa;沉積室極限真空度2.0×...
納米團簇沉積系統 納米團簇沉積系統是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2012年08月01日啟用。技術指標 納米糰簇源:1-20nm。主要功能 具備納米糰簇模組和磁控濺射模組功能。
高精量微納米材料沉積系統是一種用於化學領域的工藝試驗儀器,於2017年10月10日啟用。技術指標 XYZ三軸平台移動範圍不小於: X軸:350 mm;Y軸:300 mm;Z軸:50 mm;三軸平台移動精度為1um;三軸平台重複定位精度優於5um,移動...
低維納米結構沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年8月31日啟用。技術指標 配備4個以上的靶位; 真空度低於1×10-8mbar。主要功能 實現納米顆粒和一些分子的無損傷沉積,是研究和製備低維納米材料非常重要的手段,對...
納米離子束流複合沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2008年4月30日啟用。技術指標 設備包括三個真空室,其中濺射室內有一對三英寸的對靶,沉積室內有一四工位離子束濺射源和一常規磁控濺射靶;濺射室和沉積室的極限真空度...
多功能離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月20日啟用。技術指標 1真空室:全不鏽鋼結構: 2.真空抽氣系統 3.高能氣體離子源(一套)4.高能金屬離子源(一套)5.低能濺射離子源(一套)6.離子束濺...
在原子層沉積系統有國際品牌和自主品牌兩類。在國外品牌以劍橋(cambridge)最為悠久,全球銷售量幾百台。其次以芬蘭的BENEQ和picosun,在高端ALD領域投入大量研發工作,通過原子層沉積來製備薄膜,由於 ALD 沉積系統價格昂貴,而望而卻步。...
能夠沉積高質量薄膜,即使襯底結構十分複雜,如多孔材料、高深寬比的溝槽或者納米顆粒,沉積的薄膜均勻性也極其優異。Picosun功能強大、易更換的固、液、氣態前驅體輸運系統確保可以在矽平面基片,3D複雜基片及所有納米尺度的特徵器件上製備無...
脈衝雷射氣相沉積系統是一種用於材料科學、機械工程領域的計量儀器,於2014年12月01日啟用。技術指標 真空腔的配置:包括氣相沉積腔和預真空腔;氣相沉積腔的腔體直徑為18”,並配有多個6”連線埠以利於系統升級;所有真空腔均採用渦輪分子...
有機薄膜沉積系統是一種用於物理學、能源科學技術領域的工藝試驗儀器,於2011年12月25日啟用。技術指標 該設備主要由蒸發沉積室、手套箱、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品傳遞裝置、計算機控制系統、電控系統、配氣系統等部分組成...
與目前的其他鍍膜方法相比,具有沉積溫度低,精確控制膜厚、薄膜結合強度好、逐層沉積膜層厚度一致、成分均勻性好等優越性,是先進的納米表面處理技術。原子層沉積設備已套用於半導體積體電路產業,給半導體工程,微機電系統和其他納米技術...
荷蘭Picosun SUNALETM R-200 Series型 原子沉積系統,功能強大且多元化,不僅具有沉積單一的薄膜、納米疊層與梯度薄膜、摻雜質多組分薄膜、三元薄膜等功能,同時沉積的薄膜能夠得到極度均勻性和高度重複性,具有在複雜基底上、苛刻環境中進行...
電子束蒸發薄膜沉積系統是一種用於物理學、材料科學、動力與電氣工程領域的計量儀器,於2015年12月23日啟用。技術指標 1.樣品規格:6″Wafer;2.設備極限真空:2#215;10-8Torr;3.電子槍規格:6坩堝,20cc,5KW電源;4.設備框架尺寸...
納米團簇系統 納米糰簇系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2018年4月30日啟用。技術指標 Pumping:1250ls-1turboseparatescrollbackingpump;Basepressure:5x10-10mbar24hrsafterbakeout。主要功能 多室沉積鍍膜。
分子束外延沉積系統是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2013年7月9日啟用。技術指標 超真空度:10^-10Torr;原子尺度內可控生長HgCdTe(MCT)基單晶薄膜、異質結和量子阱等;原子層尺度監測材料的生長;納米級超薄膜...
《電沉積納米晶材料技術》是2008年國防工業出版社出版的圖書,作者是屠振密、李寧、胡會利、曹立新。本書可供從事電沉積技術的教學、科研和工程技術人員閱讀和使用,也可供大專院校和科研機構的相關專業,如套用化學、電化學工程、腐蝕與防護...
系統地討論了微觀和介觀模擬方法中各種參數和物理性質模擬的影響,給今後工作打下了較好的基礎。與此同時,通過由巨觀變數確定耗散粒子動力學作用力參數的方法將介觀模擬方法與巨觀現象相聯繫,研究了納米顆粒的懸浮、沉降等規律。