電子束蒸發薄膜沉積系統是一種用於物理學、材料科學、動力與電氣工程領域的計量儀器，於2015年12月23日啟用。
基本介紹
- 中文名：電子束蒸發薄膜沉積系統
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、材料科學、動力與電氣工程
- 啟用日期：2015年12月23日
- 所屬類別：計量儀器 > 長度計量儀器 > 雙頻雷射干涉儀
技術指標,主要功能,
技術指標
1.樣品規格：6″Wafer；2.設備極限真空：2#215;10-8Torr；3.電子槍規格：6坩堝，20cc，5KW電源；4.設備框架尺寸：約72″寬×40″深×80″高；5.電路規格：380VAC/三相/50Hz/30Amps，需接地；6.氣路規格：壓縮空氣，1/4″Swagelok接頭@80psi；高純氮氣，1/4″Swagelok接頭@10psi；工藝氣體，1/4″Swagelok接頭@5-7psi；7.水路規格：3/4″NPT接頭@50psi；8.膜層均勻性：優於±5%。
主要功能
進行各種膜層材料的沉積，並可控制沉積膜層的速率和厚度，用於納米材料、太陽能光伏電池等領域的器件研發。
