等離[子]體刻蝕是2019年全國科學技術名詞審定委員會公布的名詞。
基本介紹
- 中文名：等離[子]體刻蝕
- 外文名： plasma etching
- 所屬學科：物理學_電漿物理學
- 發布時間：2019年
發布時間,出處,
![等離[子]體刻蝕](/img/4/dfe/18d0a9b308121ed75bfd45b8c48d.jpg "等離[子]體刻蝕")
等離[子]體刻蝕
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等離[子]體刻蝕 等離[子]體刻蝕是2019年全國科學技術名詞審定委員會公布的名詞。發布時間 2019年，經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《物理學名詞》 (第三版)
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由非彈性碰撞產生的離子、電子及及游離基(游離態的原子、分子或原子團) 也稱為電漿, 具有很強的化學活性, 可與被刻蝕樣品表面的原子起化學反應, 形成揮發性物質, 達到腐蝕樣品表層的目的。同時, 由於陰極附近的電場方向垂直於陰極...
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- 離子銑
圖1 離子束刻蝕機的原理 中和燈絲髮射電子與氬原子複合來防止矽片帶上正離子電荷。離子束刻蝕機在10-4托的低壓氬氣環境中工作，它的工作壓力低於通常的高密度電漿刻蝕的工作壓力。離子束刻蝕用於刻蝕金、鉑和銅等難刻蝕的材料。矽片...
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