高低真空掃描電子顯微鏡

高低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於2005年5月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：高低真空掃描電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、冶金工程技術
• 啟用日期：2005年5月20日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

高真空模式解析度：3.0nm；低真空模式解析度：4.0nm；放大倍數：×5_×300,000；探測器：二次電子探測器、高靈敏度半導體探測器；圖像種類：二次電子像、背散射電子像（成分像、拓撲像、立體像）。

主要功能

（1）高真空模式二次電子圖像和背散射電子圖像觀察、低真空模式背散射電子圖像觀察；（2）除氫、氦、鋰以外的所有元素能譜的定性和半定量分。