掃描形貌儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2015年3月10日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描形貌儀
- 產地:美國
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2015年3月10日
- 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 掃描探針顯微鏡
掃描形貌儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2015年3月10日啟用。
掃描形貌儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2015年3月10日啟用。技術指標 大範圍掃描器:XY 方向掃描範圍大於 120 um,Z 方向不小於 5 um; 高分辯掃描器: XY 方向掃描範圍大於 10 um,Z 方向不小於 2.5 um; 掃描器噪音:...
掃描形貌測量顯微鏡 掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。技術指標 最大倍率20000。主要功能 表面形貌測量。
Z方向範圍: 0-327μm,精度≤0.1 nm ;台階高度重現性≤0.6nm; 探針半徑2um,壓力0.5 - 50mg可調、可恆定壓力控制 單次掃描長度最大80mm; 8英寸樣品台,定位精度2um。主要功能 用於樣品表面的兩維和三維形貌,厚度,表面...
3D形貌測量儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的儀器,於2011年12月5日啟用。技術指標 測量範圍:100mm×100mm×100mm; 最大縱向解析度:10nm; 配置360度轉軸,可掃描物體的整體3D模型進行分析測量。主要功能 微觀幾何形狀...
高精度三維形貌掃瞄器 高精度三維形貌掃瞄器是一種用於信息科學與系統科學領域的計量儀器,於2019年12月18日啟用。技術指標 掃描範圍300*230mm,特徵精度:±10μm。主要功能 精密三維點雲掃描。
三維形貌儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2016年3月7日啟用。技術指標 1.雙LED光源(白光和綠光),工作模式分為VSI和PSI測試模式。垂直測量範圍:0.1nm至10mm,全量程閉環掃描,無需縫合拼接。垂直解析度:主要功能 三位形貌...
三維表面形貌儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的計量儀器,於2016年06月01日啟用。技術指標 工作平台:可接納樣品不小於150x150mm,XY解析度0.078um,掃描平整度<1um/100mm,Z的量程2nm到50um 測量光筆1:量程>300um,精度0...
三維白光干涉形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2016年07月01日啟用。技術指標 XYZ行程:200mmX200mmX100mmRMS重複精度:0.005nm垂直掃描範圍:0-20mm垂直掃描解析度:1nm最大縱向掃描速度:96um/secRa測量精度:≤0.1nm反射率...
掃描方式 非接觸式測量 拼接方式 標誌點全局拼接、特徵拼接、單軸或多軸轉台全自動拼接 精度控制 自動監測;內置全局誤差控制;攝影測量全局定位控制 測頭重量(KG) 雙目2.4 / 四目2.8 雙目4.1 / 四目4.8 系統支持 Win7 / Win10 64...
表面形貌儀是一種用於材料科學領域的計量儀器,於2007年12月12日啟用。技術指標 1.重複性7.5? 2.最大測量範圍80mm 3.垂直測量範圍327um 4.垂直解析度13um,0.01 ? 5.垂直解析度64um, 0.04? 6.垂直解析度327um,0.2?。主...
表面三維形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2008年1月1日啟用。技術指標 放大倍數為25倍、100倍、500倍垂直掃描範圍:30 μm 、100μm、5mm、10mm 垂直掃描解析度:0.01nm解析度:752×480像素(可選1k×1k )側向解析度:0....
由電子槍發射的電子,以其交叉斑作為電子源,經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成能譜儀獲得。具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束,在掃描線圈驅動下,於試樣表面 2 材料形貌分析觀察作柵網式掃描。聚焦電子束與試樣相互作,...
1.1 表面形貌及其意義1.2 表面測量技術發展概況1.2.1 接觸式測量方法1.2.2 光學測量方法1.2.3 非光學式掃描顯微鏡方法1.2.4 各種測量方法的比較參考文獻2 基於微恆力位移感測器的表面形貌測量系統...
顯微形貌儀是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2011年7月19日啟用。技術指標 10倍/20倍/50倍/150倍。主要功能 鹵素燈用於光鏡,雷射器掃描作用加深傳統光鏡達不到的大景深。配以專業分析軟體,在獲取表面及結構形貌的同時,可分析...
掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標 解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容 各種材料的表面形貌觀察...
它可以進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素麵掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑑定,晶粒尺寸,晶體、晶粒取向測量。
這些信號來自樣品的特定發射區域,它隨表面形貌的不同而變化。從而可以獲得樣品的成份、表面形貌、晶體結構等信息。掃描電鏡的特點之一是,用它檢驗大塊樣品時能獲得高的解析度,商品儀器可達50埃,專用儀器可達25埃。特點之二是,利用掃描...
雷射共聚焦掃描分析儀是一種用於力學、物理學領域的分析儀器,於2016年12月25日啟用。技術指標 雷射光源:405nm 放大倍數:25x—40000x X、Y軸解析度:120nm,Z軸步進精度:1nm 觀察方式:明場、暗場、偏光、微分干涉。主要功能 主要...
掃描電子顯微鏡系統是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年10月26日啟用。技術指標 解析度:3.0nm@30KV(SE and W),4.0nm@30KV(VP with BSD)。主要功能 觀察掃描各種金屬材料及產品的顯微形貌,可進行失效分析,能譜...
自動變焦三維表面形貌儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器,於2014年5月8日啟用。技術指標 位移範圍(X、Y、Z軸):100×100×100mm 樣品表面結構:表面形貌Ra>10-15nm,Lc=2µm 最大掃描面積:10000mm2 最小測量...
可對較大的實物和空間進行三維掃描/抄數得到它們的三維彩色數字模型和三維形貌數據,該設備可套用於建築測量、地形測繪、建築遺產及文物保護、文物發掘、事故現場記錄等行業和領域,為其提供一種全新的手段,解除傳統測量無法逾越的限制,提高...
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子...
光學掃瞄器 光學掃瞄器是一種用於機械工程領域的計量儀器,於2018年12月18日啟用。技術指標 可變焦式測量系統。主要功能 用於零件表面形貌的測量。