表面形貌分析儀是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年1月8日啟用。
基本介紹
- 中文名:表面形貌分析儀
- 產地:美國
- 學科領域:信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
- 啟用日期:2013年1月8日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
表面形貌分析儀是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年1月8日啟用。
表面三維形貌分析儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2017年1月1日啟用。技術指標 1、解析度:二維解析度要求達到0.12微米。垂直解析度0.01微米。 2、雷射光源:採用405nm短波長半導體雷射,壽命≥10000小時;雙光路共焦系統。 3、放大...
《新型表面形貌測量儀器》首先系統地對表面形貌測量儀器的發展進行了綜述,然後從原理、結構、信號處理、軟體設計等方面論述了基於微恆力位移感測器的表面形貌測量系統、基於雷射聚焦伺服式感測器的輪廓儀、基於雷射干涉測量的輪廓儀等三種表面...
表面分析是對固體表面或界面上只有幾個原子層厚的薄層進行組分、結構和能態等分析的材料物理試驗。也是一種利用分析手段,揭示材料及其製品的表面形貌、成分、結構或狀態的技術。表面分析概況 自20世紀60年代中期金屬型超高真空系統和高效率...
主要功能 該超聲原子力模量成像分析儀主要涉及微觀材料力學、表面形貌測量等領域,能夠實現較大的尺度範圍內同時對材料表面形貌和彈性性能分布進行表征。其主要套用是在微小零件研發中用於測量工作,研究材料的微觀形貌和力學性能之間的關聯。
40000x X、Y軸解析度:120nm,Z軸步進精度:1nm 觀察方式:明場、暗場、偏光、微分干涉。主要功能 主要進行產品表面形貌及材料顯微組織觀察、材料晶粒度、晶粒長徑比、孔隙率及顆粒度的測量與評價,材料表面粗糙度、塗層薄膜厚度測量。
實驗室現有大型儀器設備包括:電子束蒸發真空鍍膜機,多功能磁控濺射儀,雷射分子束外延機,精密絲網印刷機,表面形貌分析儀,高溫燒結爐,時空分辨真空紫外光譜測量系統,超快非線性雷射光譜學測量系統,飛秒光學參量放大系統,數字存儲示波器...
,金相顯微鏡,體視顯微鏡,表面形貌分析儀;電子萬能試驗機,低周疲勞試驗機,高頻疲勞試驗機,旋轉彎曲疲勞試驗機,熱機械疲勞試驗機,環境疲勞試驗機,全自動顯微硬度計,高溫模量儀;金相製備系統,雙噴減薄儀,離子減薄儀;多功能雷射...
位是納米。粗糙度的標準是用均方根來表示的,它是規定平面所有測量數值的平方的平均值的平方根。這是一個用來確定最可能的測量數據的普通統計方法。矽片表面的微粗糙度的測量是用幾種光學表面形貌分析儀的一種進行的。對晶片製造來講,...